PlasmaMS 300同位素選擇
有的元素只有一種同位素，因此被稱為單同位素元素。大多數(shù)的元素都有多種同位素供 選。.
多同位素元素(Multi-isotopic)
? Copper(Cu), selenium(Se), lead(Pb), mercury(Hg), erbium(Er), ytterbium(Yb), lutetium(Lu)
單同位素元素(Mono-isotopic)
? Beryllium(Be), sodium(Na), aluminum(Al), manganese(Mn), cobalt(Co), arsenic(As), bismuth(Bi), holmium(Ho), thulium(Tu)
當(dāng)需要從多個供選同位素中選擇合適的同位素來對目標(biāo)元素進行分析的時候，可以從以 下幾個方面進行考慮：
例如: 1.靈敏度或動態(tài)線性范圍是考慮的主要因素嗎?
如果需要優(yōu)先考慮靈敏度的話，絕大多數(shù)情況下，挑選相對豐度比的同位素是正確的
選擇。如果有的樣品中目標(biāo)元素濃度高，有的目標(biāo)元素濃度低，彼此之間濃度差異很大， 那么此時就需要優(yōu)先考慮擴展該元素的動態(tài)線性范圍，此時應(yīng)當(dāng)選擇相對豐度比較小的同 位素來進行檢測。
2.你的樣品中是否包含了會造成干擾的大量元素？ 有的時候，選擇豐度比的同位素反而達不到降低檢出限的目的，因為樣品基體成分中 可能含有別的干擾元素，對目標(biāo)同位素造成了同位素干擾或多原子分子干擾。此時選擇另 一個雖然豐度比相對低一些但是不受干擾的同位素來進行測量才是正確的。基體干擾中比
較常見的是氧化物干擾?；w中的干擾同位素形成氧化物后，會直接影響質(zhì)量數(shù)比它大
16的同位素的測定結(jié)果。

PlasmaMS 300 內(nèi)標(biāo)元素的選擇
內(nèi)標(biāo)元素的使用可以用來校正多樣品測定的過程中，信號隨著時間發(fā)生的漂移。實驗室環(huán) 境的變化或者樣品基體的變化（例如粘度等）都會造成信號的漂移。
對于任何的多元素分析，我們都推薦用戶至少使用一個內(nèi)標(biāo)元素。如果待測元素的質(zhì)量分 布從低到高都有，應(yīng)當(dāng)至少使用3個內(nèi)標(biāo)元素，分別檢測低質(zhì)量、中質(zhì)量、高質(zhì)量區(qū)段的 同位素信號漂移。
選擇什么同位素作為內(nèi)標(biāo)元素需要根據(jù)您的方法中的待測目標(biāo)同位素來決定。當(dāng)需要為您 方法中的各個目標(biāo)同位素分配內(nèi)標(biāo)同位素的時候，可以考慮一下幾個因素：
1.首先考慮的，也是重要的一個因素就是：用作內(nèi)標(biāo)的元素必須是您的樣品中不包含的 元素。這些內(nèi)標(biāo)元素應(yīng)當(dāng)精準(zhǔn)地添加到每一個單溶液里。一般我們可以單獨配置內(nèi)標(biāo)元素 溶液，然后在分析的時候進行在線添加，可以保證添加的精準(zhǔn)性。內(nèi)標(biāo)元素的信號強度會 做為參比，由軟件來對每個單溶液進樣時發(fā)生的信號抑制或增強進行計算和校正。如果您 的樣品中含有內(nèi)標(biāo)元素，則內(nèi)標(biāo)信號會發(fā)生額外的不規(guī)則的信號增強，造成軟件校正后的 目標(biāo)元素濃度比實際濃度偏低。
2.其次，內(nèi)標(biāo)元素的質(zhì)量數(shù)能和目標(biāo)元素比較接近，建議內(nèi)標(biāo)同位素和目標(biāo)元素同位 素之間的質(zhì)量差不要超過50amu。
3.為了確保內(nèi)標(biāo)元素和目標(biāo)元素在相同條件下的行為表現(xiàn)基本一致，內(nèi)標(biāo)元素和目標(biāo)元素 的電離電位比較接近。
當(dāng)使用內(nèi)標(biāo)元素校正的時候，有兩種校正方式是可以供選擇的：
1. 參考法(Reference)
2. 插值法(Interpolation)
參考法：任何分析元素同位素峰均能以任一內(nèi)標(biāo)元素同位素峰作為參照。目標(biāo)元素峰不需 要為內(nèi)標(biāo)元素附近的峰。當(dāng)使用參考法的時候，以校正空白(calibration blank)的內(nèi)標(biāo)響應(yīng) 值作為100%，通過計算樣品中內(nèi)標(biāo)元素的回收率，來校正進樣過程中的信號漂移。
樣品中的內(nèi)標(biāo)元素回收率（相對于calibration blank中的100%而產(chǎn)生的偏離）會被用作校 正因子來校正目標(biāo)同位素的數(shù)據(jù)（每種目標(biāo)同位素所使用的內(nèi)標(biāo)同位素都應(yīng)是其在方法中 選擇的用來參考的那一個內(nèi)標(biāo)同位素）
插補法：內(nèi)標(biāo)對測試峰的影響與兩者質(zhì)量數(shù)的接近程度有關(guān)。一個分析元素若置于兩內(nèi)標(biāo) 物中間，可依據(jù)每個 amu 基數(shù)進行計算因素的校正。
首先：
IS 1 in Blank set to 100% IS 2 in Blank set to 100%
IS 2 的質(zhì)量數(shù)大于 IS 1。
如果
IS 1 in Sample reads 80%
IS 2 in Sample reads 80%
我們可以認為 IS 1 &2 之間的所有元素都受到了 20%的抑制. Factor =1/80% = 1.25.
又如：
IS 1 in Sample reads 80%
IS 2 in Sample reads 60%
我們可以認為 IS 1 &2 之間的所有元素都受到了與質(zhì)量變化相關(guān)的抑制（質(zhì)量數(shù)越大，受
到抑制越強），距離 IS1 與 IS2 的距離相等的質(zhì)量數(shù)的元素， Factor =1/70% = 1.43.
上圖顯示的就是使用iCAP Q測量時，設(shè)置了一系列覆蓋質(zhì)量數(shù)區(qū)間的內(nèi)標(biāo)元素，計算樣 品中的內(nèi)標(biāo)元素回收率：
6Li 45Sc 115In 209Bi
因為所有的目標(biāo)元素濃度都需要使用內(nèi)標(biāo)回收率來進行校正,建議用戶將內(nèi)標(biāo)元素的濃度 控制在一個合理范圍，來降低內(nèi)標(biāo)的%RSD，一般說來我們建議內(nèi)標(biāo)元素的
icps >100,000。

PlasmaMS 300型電感耦合等離子體質(zhì)譜儀簡稱PlasmaMS 300，是鋼研納克檢測技術(shù)股份有限公司推出的ICP質(zhì)譜儀，作為一種精密無機元素分析儀器，它具有以下特點：
1.1.1 進樣系統(tǒng)
1) 進樣系統(tǒng)應(yīng)外置, 便于操作、更換和清洗；
2) 采用進口霧化器，霧化效率高,不易堵塞；
3) 進樣管路的長度盡可能短, 減少了記憶效應(yīng)。；
4) 儀器配備系列經(jīng)過優(yōu)化的進樣系統(tǒng)，可用于有機溶劑、高鹽/復(fù)雜基體樣品、含氫氟酸（HF）等樣品的測試；
5) 使用質(zhì)量流量控制器控制冷卻氣、輔助氣和載氣的流量，保障測試性能長期穩(wěn)定；
6) 4通道12滾輪進口蠕動泵，提升樣品導(dǎo)入穩(wěn)定性和均勻性。
1.1.2 ICP離子源
1) 自激式固態(tài)射頻發(fā)生器，體積小巧，效率高，功率可通過反饋調(diào)節(jié)，實現(xiàn)較高的穩(wěn)定性；
2) 自動匹配速度快，保證了點火成功率；
3) 精準(zhǔn)控制的三維移動平臺，實現(xiàn)了炬管自動定位及自動校準(zhǔn)的功能；
4) 快速插拔式氣管連接, 方便拆卸；
5) 快速插拔式氣管連接, 方便拆卸。
1.1.3 接口單元
1) 保持樣品離子的完整性的同時，限度的讓所生成的離子通過；
2) 氧化物和二次離子產(chǎn)率盡可能低；
3) 等離子體的二次放電盡可能小
4) 不易堵塞，產(chǎn)生熱量盡可能少；
5) 易于拆卸和維護：錐口拆冼過程中，不影響真空系統(tǒng)，無需卸真空；
1.1.4 離子傳輸系統(tǒng)
1) 連續(xù)偏轉(zhuǎn)設(shè)計的離子光學(xué)系統(tǒng)的消除中子和光子的干擾
2) 優(yōu)異的六極桿離子鏡系統(tǒng)優(yōu)化了離子傳輸效率，聚集盡可能多的要測定的離子沿同樣方向進入四極桿
3) 帶動能歧視效應(yīng)的碰撞反應(yīng)池技術(shù)，有效消除由樣品基體或等離子體源引起的多原子離子干擾；
1.1.5 四極桿質(zhì)量分析系統(tǒng)
1) 自主研發(fā)的四極桿電源采用了數(shù)字直接頻率合成(DDS)技術(shù)，能夠進行自動頻率匹配調(diào)諧，使得儀器的自動化程度和安全性能有了進一步提高；
2) 內(nèi)部無連接線、頂部進入的無線纜設(shè)計，使裝配更為方便,增加儀器的一致性和可靠性；
3) 的四極桿尺寸結(jié)合全固態(tài)四極桿RF發(fā)生器, 帶來的分辨率和長期穩(wěn)定性，具有同時記錄所有元素譜線的“攝譜”功能，并能存儲和檢索；
4) 結(jié)合六極桿離子鏡系統(tǒng)和的真空系統(tǒng), 帶來的靈敏度；
1.1.6 離子檢測和數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)
1) 采用不連續(xù)打拿極電子倍增器；
2) 即插即用設(shè)計, 沒有任何連接線, 方便更換；
3) 軟件硬件控制檢測器過荷保護
4) 三種數(shù)據(jù)采集模式，全質(zhì)量連續(xù)掃描； 跳峰掃描；兩者結(jié)合的掃描。
1.1.7 真空系統(tǒng)
1) 自主開發(fā)了的真空采集控制系統(tǒng)，全自動整機真空保護，保證儀器的正常工作；
2) 先進的緩沖技術(shù)，機械泵間斷運行，實現(xiàn)了極低的待機功耗；
3) 獨特的防粉塵、防返油霧設(shè)計，有效隔斷油氣，解決機械泵油氣污染問題，確保了儀器的超高真空潔凈系統(tǒng)
1.1.8 控制系統(tǒng)
1) 具有包括溫度、水流、氣壓、位置狀態(tài)監(jiān)控功能等，上提供儀器保護，延長使用壽命；
2) 使用CAN總線結(jié)構(gòu), 其獨特的編碼方式具有的穩(wěn)定性和抗干擾能力；
3) 利用CAN總線的獨特優(yōu)勢, 儀器增加的任何功能均為即插即用模式, 非常方便。
1.1.9 軟件系統(tǒng)
1) 儀器測試各參數(shù)、自動調(diào)諧、三維移動平臺、透鏡電源等參數(shù)靈活設(shè)置；
2) 全中文的軟件界面，符合中國人的思維習(xí)慣，參數(shù)監(jiān)控和方法設(shè)置直觀快捷；可提供一鍵式（調(diào)諧、測試等）操作的功能；
3) 軟件可查看各個部件的實時運行狀態(tài)以及故障報錯，確保儀器的安全運行

PlasmMS 300儀器使用環(huán)境和工作條件
1) 環(huán)境溫度：15℃～26℃，室內(nèi)氣溫變化每小時不超過3攝氏度，推薦室溫22℃；
2) 相對濕度：20～60%，無冷凝。濕度大的地區(qū)請配備除濕機；
3) Ar純度>99.996%，配備輸出量程為1-1.6Mpa或0-2.5Mpa的氧氣壓力表或氮氣壓力表，引入儀器的Ar壓力0.55Mpa~0.65Mpa，氬氣輸出端配6mm管適配器。儀器正常點火工作時用氣量15L/min；如果選配了He碰撞氣，請準(zhǔn)備He減壓閥及氣瓶一個，減壓閥量程0-0.25Mpa或者0-0.4Mpa，減壓閥后端接4mm管適配器，He氣濃度>99.999%。
4) 供電電源：總供電三相五線(3相線，零線，地線)，額定電流40A以上；主機供電需要220V單相三線(火、零、地)供電，需要不帶漏電保護的兩線或3線的32A額定電流空氣開關(guān)一個。
5) 要求通風(fēng)速度~250m3/h，在儀器抽風(fēng)口處的氣流速度~8.8m/s (請注意，這不是風(fēng)機的抽速要求)，建議在抽風(fēng)口加節(jié)流閥，以便調(diào)整風(fēng)速。
6) 儀器應(yīng)當(dāng)置于無煙，無腐蝕性的環(huán)境下，無振動，不受陽光直射，遠離易燃易爆危險品；
7) 接地良好（接地電阻≤4Ω）。