PlasmaMS 300型質譜儀將ICP的高溫電離特性與四極桿質譜計的靈敏快速掃描的優(yōu)點相結合而形成一種新型的有力的元素分析、同位素分析和形態(tài)分析技術。該技術具有檢出限低、動態(tài)線性范圍寬、干擾少、分析精度高、速度快、可進行多元素同時測定等優(yōu)異的分析性能，已從初在地質科學研究的應用迅速發(fā)展到環(huán)境保護、半導體、生物、醫(yī)學、冶金、石油、核材料分析等領域。

PLASMAMS 300 在不同行業(yè)的應用與干擾
地質樣品通常難以消解。相比之下，激光消融幾乎不需要任何樣品制備，僅僅 需要將樣品切至適合激光消融池的大小。
在這一領域中，樣品多種多樣，質譜分布范圍很廣，因此此類應用為廣泛和復雜。在單 個礦物或樣品(minerals or phases)中，可能既需要分析痕量金屬含量，又需要進行同位 素信息掃描。
由于在這類樣品中存在著大量的稀土元素(rare earth elements)，因此在這類地質樣品中 常見的干擾就是氧化物干擾和雙電荷干擾。
應用領域:
巖石稀土分析和巖石消解 激光消融分析礦物
同位素比例研究地球及外來物質的原始和進化 水沉積物和地下水

PlasmaMS 300在環(huán)境領域的應用
在環(huán)境應用領域(監(jiān)控環(huán)境中微量和有毒元素)中，PLASMAMS 300是近年來增長快的應用技術 手段。 該應用的關鍵是：根據(jù)相關法規(guī)，必須對水、土壤、淤泥以及其他重要的環(huán)境物質中的一 系列元素進行檢測，并且這些元素含量都在接近ppb級別。
在環(huán)境行業(yè)應用中，的挑戰(zhàn)是：用同樣的分析方法來分析不同基體的樣品。在這種情 況下，是在用PLASMAMS 300檢測之前對樣品基體進行分離。
分離技術近幾年在環(huán)境樣品分析中運用很多。具體方法就是：將iCAP Q與可以分離目 標元素氧化物的附件(一般為色譜，例如LC或GC)偶聯(lián)。
應用領域：
自來水檢測和水污染監(jiān)測 廢水中有毒元素和低水平錒系元素測定
環(huán)境污染物中同位素識別和定量

ICP-MS的標準加入法
基體抑制是由基體帶來的物理干擾或化學干擾導致的。 使用標準加入法時： 1.首先將少量已知量的分析物添加到預制的分析樣品中；
2.然后對這些包含了標準加入物的樣品進行再測定，并繪制出濃度曲線；
3.該曲線在濃度軸(X 軸)上的截距即為樣品中分析物的濃度，
4.該曲線的實驗空白(即未加標樣品)CPS（即 Y 軸上的截距），即為樣品中分析物的 CPS；
5.標準加入法得到的圖形斜率即為該基體中樣品的分析靈敏度。
6.標準加入法避免了配置標準曲線，相當于進行了完全的基體匹配。
7.后續(xù)樣品如果基體和該加標樣完全一致，則相當于該方法也為后續(xù)未知樣品提供了基體 匹配，該加標曲線可以直接用于后續(xù)樣品的全定量測定。
基體效應以外的干擾并不能通過標準加入法消除，但是可以通過空白扣減來消除，前提是 用來扣減的空白溶液中和樣品中含有的干擾水平是一致的。