單道掃描光譜儀測樣 ICP分析儀報價 可靠耐用 鋼研納克
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單道掃描光譜儀測樣-ICP分析儀報價-可靠耐用-鋼研納克

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光源 固態(tài)光源
光學系統(tǒng) 中階梯光柵與棱鏡交叉色散結構
進樣系統(tǒng) 一體式炬管
檢測器 PMT
品牌 鋼研納克
商品介紹
Plasma 1000電感耦等離子體原子發(fā)射光譜儀(ICP—AES)主要用于液體試樣(包括經(jīng)化學處理能轉變成溶液的固體試樣)中金屬元素和部分非金屬元素的定量分析。將樣品溶液以氣溶膠形式導入等離子體炬焰中,樣品被蒸發(fā)和激發(fā),發(fā)射出所含元素的特征波長的光。經(jīng)分光系統(tǒng)分光后,其譜線強度由光電元件接受并轉變?yōu)殡娦盘柖挥涗?。根?jù)元素濃度與譜線強度的關系,測定樣品中各相應元素的含量。
>> 儀器特點
1.分析流程全自動化控制,實現(xiàn)軟件點火、氣路智能控制功能;
2.輸出功率自動匹配調(diào)諧,功率參數(shù)程序設定;
3. 優(yōu)良的光學系統(tǒng),先進的控制系統(tǒng),保證峰位定位準確,信背比優(yōu)良;
4.極小的基體效應;
5.測量范圍寬, 超微量到常量的分析,動態(tài)線性范圍5—6個數(shù)量級;
6.檢出限低,大多數(shù)元素的檢出限可達ppb級;
7.良好的測量精度,穩(wěn)定性相對標準偏差RSD≤1.5%(5ppm),優(yōu)于國家A級標準(JJG768-2005);
8.功能強大、友好的人機界面分析軟件,可在測定過程中,進行數(shù)據(jù)處理,方法編制和結果分析,是真正的多任務工作軟件;該軟件數(shù)據(jù)處理功能強大,提供了多種方法,如內(nèi)標校正、IECS和QC監(jiān)測功能等,可獲得的背景扣除點以消除干擾;對輸出數(shù)據(jù)可直接打印或自動生成Excel格式的結果報告.
>> 工作環(huán)境
1.儀器室內(nèi)無腐蝕性氣體;空中的塵埃粒子須保持。
2.室內(nèi)溫度18℃~26℃;室溫應達到穩(wěn)定狀態(tài),溫度變化率應小于1℃/h,相對濕度不大于70%
>>尺寸和重量
1550mm(長)*759mm(寬)*1340mm(高)
重量: 240公斤
單道掃描光譜儀測樣,電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀
鋼研納克Plasma1000 ICP光譜儀測定車用耐火材料中鐵、鈦、鋯元素的含量
(1. 鋼鐵研究總院, 北京 100081;2. 鋼研納克檢測技術有限公司,北京 100081)
摘要: 采用電感耦合等離子體光譜法對耐火材料中的礬土中鐵、鈦元素進行測定及含鉻磚中鋯含量的測定。采用酸溶回渣進行樣品前處理,并對樣品進行加標回收實驗,其加標回收率在97%-104%之間,且標準曲線線性系數(shù)在0.999之上。
關鍵詞:ICP-AES; 耐火材料;礬土;含鉻磚
目前耐火材料的測定大多采用容量法和分光光度法,在分析過程中需要嚴格控制溶液的各項條件,操作復雜,繁瑣,而采用電感耦合等離子體發(fā)射光譜法不僅可以多元素同時測定,同時具有靈敏度高,干擾少等優(yōu)點。本次采用電感耦合等離子體光譜法對耐火材料中的礬土中鐵、鈦元素進行測定及含鉻磚中鋯含量的測定,速度快,并取得了很好效果。
1 實驗部分
1. 儀器及參數(shù)
Plasma1000單道掃描電感耦合等離子體光譜儀(鋼研納克檢測技術有限公司);
鹽酸,ρ≈1.18 g/ml,優(yōu)級純,北京化工廠;
硝酸,ρ≈1.42g/ml, 優(yōu)級純,北京化工廠;
Zr、Fe、Ti的標準溶液質(zhì)量濃度均為1000 μg/ml,國家鋼鐵材料測試中心;
硼酸,分析純;
碳酸鈉,分析純;
碳酸鋰,分析純;
四硼酸鋰,分析純
所用溶液用水均為二次去離子水。
1.2 ICP-AES儀器工作條件
高純氬(純度≥99.999%),光柵為3600條/mm。
參數(shù)設置:功率1.15 Kw,冷卻氣流量18.0 L/min,輔助氣流量0.8 L/min,載氣流量0.2 L/min,蠕動泵泵速20 rpm,觀測高度距功率圈上方12 mm,同軸玻璃氣動霧化器,進口旋轉霧室,三層同軸石英炬管,中心管2.0 mm。
1.3 樣品處理
1.3.1 含鉻磚的測定
稱取1g硼酸碳酸鈉混合試劑于鉑金坩堝中,稱取試樣0.05g于硼酸碳酸鈉上,而后樣品上在覆蓋1g硼酸碳酸鈉試劑,放入馬弗爐中灼燒,先緩慢升溫至800℃,于800℃保持20分鐘,而后升溫至1050℃,保持1h。取出冷卻,放入1:1的鹽酸中溶出樣品,而后定容至100ml塑料容量瓶中。加入1ml氫氟酸。定容,搖勻待測。
1.3.2 礬土的測定
稱取2g碳酸鋰-無水四硼酸鋰混合試劑于鉑金坩堝中,稱取試樣0.2g于碳酸鋰:無水四硼酸上,而后樣品上在覆蓋2g碳酸鋰-無水四硼酸試劑,放入馬弗爐中灼燒,先緩慢升溫至800℃,于800℃保持20分鐘,而后升溫至1100℃,保持0.5h。取出冷卻,放入1:1的鹽酸與氫氟酸溶出樣品,而后定容至100ml塑料容量瓶中。定容,搖勻。分取10ml到100ml容量瓶中,定容,搖勻待測。
2 結果與討論
2.1 分析譜線的選擇
對于同一種元素, ICP-AES 可以有多條譜線進行檢測,但是由于基體和其他元素的干擾,并不是所有的譜線都適用。進行光譜掃描后,根據(jù)樣品中各待測元素的含量及譜線的干擾情況,選其靈敏度適宜,譜線周圍背景低,且無其他元素明顯干擾的譜線作為元素的分析線,結果見表1。
表1 各元素分析線(nm)
元素 Zr Fe Ti
波長 343.823 259.940 307.211
在進行譜線選擇時,需要注意背景及干擾情況,選擇盡量將背景位置定在盡可能平坦的位置,注意要無小峰,同時左右背景的平均值盡可能與譜峰背景強度一致。
2.2 實際樣品的測定
2.2.1校準曲線
實際樣品按照本文方法進行分析,校準曲線線性相關系數(shù)如表2
表2 實際樣品校準曲線線性相關系數(shù)
元素 Zr Fe Ti
相關系數(shù) 0.9993 0.9995 0.9996
在校準曲線配置時,由于在樣品基本為高鹽樣品的混合溶液,所以并必須進行基體匹配。需在標準曲線中加入相應量的鹽以配備樣品中的鹽度。含鉻磚需加入鉻元素作為基體打底。
2.2.2 測定結果
稀土水溶液實際樣品按照本文方法進行分析,其配分結果見表3.
表3 實際樣品分析配分結果(%)
樣品名稱 Zr Fe Ti
含鉻磚 1.592 - -
礬土 - 1.781 2.635
2.2.3 加標回收率結果
表4 各元素加標回收率(%)
分析元素 加入量
% 實際值
% 檢出量
% 回收率
%
Zr 1.5 1.59 3.05 97%
Fe 1.5 1.78 3.34 104%
Ti 3 2.63 5.58 98%
3 結論
本方法使用堿融處理樣品, ICP- AES法測定耐火材料含鉻磚中的鋯元素,礬土中的鐵與鈦元素。具有樣品前處理簡便、有效待測元素損失較少、分析精密度高及分析速度快等有點。此方法快速、簡便、準確, 適用于耐火材料含鉻磚中的鋯元素,礬土中的鐵與鈦元素的含量的測定。
單道掃描光譜儀測樣,電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀
微波消解-ICP光譜法測定氮化硅(氮化硅鐵)中的多種微量元素
鋼研納克應用研究中心
氮化硅陶瓷具有耐高溫、耐腐蝕、耐磨性能和獨特的電性能,被廣泛應用于航天軍工、機械工程、通訊、電子、汽車、能源、化工生物等領域。然而我國產(chǎn)品技術及質(zhì)量整體水平較低,其主要原因就是粉料的性能不穩(wěn)定,雜質(zhì)含量較高,無法生產(chǎn)出性能優(yōu)良的氮化硅陶瓷。這是我國生產(chǎn)的氮化硅粉末不能在結構陶瓷中廣泛應用的障礙。目前,氮化硅粉料的主要研究方向是高純、超細、無團聚、粒度分布窄的粉料制備技術;粉料中微量摻雜元素對陶瓷性能的影響;粉料顆粒尺寸、形貌、流動性與成型堆積密度的關系。因此,準確測定氮化硅粉末的微量元素十分重要。
針對上述現(xiàn)狀,本實驗采用電感耦合等離子體發(fā)射光譜法對高純氮化硅粉體的微量元素進行測定,并優(yōu)化了樣品前處理方法和儀器參數(shù),測試數(shù)據(jù)可靠,結果滿意,重復性好,滿足客戶的檢測需求。
1 實驗部分
1.1 主要儀器及工作條件
Plasma 1000型全譜電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀(鋼研納克檢測技術有限公司)。冷卻氣流量15 L/min,輔助氣流量0.5 L/min,載氣流量0.5 L/min,蠕動泵泵速20 r/min。
1.2 主要試劑
Ca、Fe、Zr、Mg、Cu、Mn、Al標準儲備溶液(國家鋼鐵材料測試中心):1000 μg/mL;試劑:、氫氟酸,優(yōu)級純。實驗用水為電阻率大于18 MΩ·cm-3的超純水;氬氣(北京誠維峰氣體有限公司):純度大于 99.995 %。
1.3 實驗方法
1.3.1 樣品的前處理
微波消解法:準確稱取0.2g樣品置于100ml消解罐,加入9ml氫氟酸和3ml ,密封好裝入微波消解儀。消解過程采用梯度升溫,條件120℃(5min),150℃(5min),180℃(5min),200℃(30min),程序結束冷卻至45℃,按上述條件重新消解一遍,冷卻40℃以下取出轉移至聚四氟乙烯燒杯中,加熱蒸掉多余的硅和氫氟酸,冷卻定容至50ml塑料瓶。
1.3.2 標準溶液系列的配制
加1ml硝酸和2.5ml氫氟酸,無基體,所有元素水標測定。
表1 標準曲線含量(ug/g)
元素 S0 S1 S2 S3 S4 S5 S6
Ca、Fe、Zr、Mg、Cu、Mn、Al 0 2.5 5 10 20 50 100
2 結果與討論
2.1 樣品前處理方法的選擇條件限制
分解氮化硅的方法有兩種:高溫堿熔和高壓反應釜。試驗首先嘗試了高溫堿熔的方法,稱取0.25g樣品于鎳坩堝,加入2g優(yōu)級純NaOH作為堿熔溶劑,放置在馬弗爐中650℃保溫15min,冷卻后取出轉移至聚四氟乙烯燒杯,使用硝酸酸化,然后加入5ml氫氟酸和1ml高氯酸冒煙至近干,冷卻硝酸回溶,定容至50ml容量瓶。結果發(fā)現(xiàn),氫氧化鈉堿熔能有效溶解樣品,硝酸酸化也能得到澄清溶液,但加入氫氟酸和高氯酸冒煙后生成大量沉淀(晶體狀),加硝酸不能回溶,二次冒煙也不能有效除去沉淀。此外,氮化硅樣品雜質(zhì)含量過低,堿熔方法引入雜質(zhì)較多,不利于低含量元素測定。綜合上述兩點,不建議采用高溫堿熔方法溶樣。
由于本實驗室不具備高壓反應釜裝置,因此采用微波消解法處理樣品,條件如1.3所述。微波消解一次很難完全溶解樣品,實驗采用連續(xù)兩次消解的方法基本能夠完全溶解,說明微波消解處理氮化硅樣品的效率并不高。由此可見,使用硝酸和氫氟酸加壓溶解氮化硅時,決定樣品消解效果的不僅包括壓力和溫度,足夠長的反應時間也非常重要。此外,微波消解相比高壓罐成本更高,因此如果現(xiàn)場有條件,采用高壓罐消解的方法,選用氫氟酸和硝酸在150-180℃加壓溶解樣品。
2.2 儀器參數(shù)選擇
由于待測元素含量較低,需要較高的射頻功率和光電倍增管負高壓。然而,射頻功率和負高壓會同時影響待測元素光譜強度和背景值,所以需要選擇合適的儀器參數(shù)。通過條件試驗發(fā)現(xiàn),負高壓達到750V后檢出效果較好。
2.3 譜線選擇
各元素優(yōu)分析譜線如表2所示。
表2 元素分析譜線
元素 波長nm
Al 396.152
Ca 396.847
Cu 324.754
Mn 257.610
Mg 285.213
Fe 238.204
Zr 343.823
2.4 校準曲線
按照儀器設定的工作條件對標準溶液系列進行測定,以待測元素質(zhì)量濃度為橫坐標,發(fā)射強度為縱坐標,繪制校準曲線,結果見表3。各元素所選譜線線性良好。
表3 元素的線性回歸方程
元素 線性回歸方程 相關系數(shù)
Al y=28.1x+2598.4 0.9999
Ca y=3991.3x+12377.8 0.9999
Cu y=136x+2464.6 0.9999
Mn y=412.9x+1302.2 0.9999
Mg y=236.0x+2032.3 0.9999
Fe y=33.8x+510.9 0.9997
Zr y=197.4x+2484.1 0.9999
2.5 方法檢出限
在儀器已優(yōu)化條件下對標準溶液系列的空白溶液連續(xù)測定10次,以3倍標準偏差計算方法中各待測元素檢出限如下表4所示。
表4 檢出限(μg/g)
Fe Mn Mg Cu Zr Ca Al
3σ 0.5163 0.0588 0.0207 0.6723 0.2757 0.0429 7.5738
10σ 1.721 0.196 0.069 2.241 0.919 0.143 25.246
3 樣品分析
按照實驗方法測定氮化硅和氮化硅鐵的元素含量,檢測結果見表5。由于樣品中待測元素含量很低,檢測和計算結果時務必帶入樣品空白參與計算。
表5 微波消解法測試結果
元素 Zr Al Cu Fe Ca Mg Mn
氮化硅鐵 <0.0005 <0.0005 0.0021 0.0054 0.0015 <0.0002 0.0003
元素 Al Cu Fe Ca B Cr Mg Ni P Mn
氮化硅 <0.0002 <0.0005 0.00057 0.00020 <0.0002 <0.0005 0.00011 <0.0002 <0.002 <0.0002
4 結論
采用Plasma1000順序掃描型電感耦合等離子體光譜儀測定高純氮化硅中微量元素,前處理部分高壓罐消解樣品時間更短,反應更徹底,微波消解能溶解樣品,但時間較長;Plasma1000檢出限低,分析結果準確,數(shù)據(jù)穩(wěn)定,滿足客戶的檢測需求。
單道掃描光譜儀測樣,電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀
Plasma 1000 單道掃描ICP光譜儀可用于地質(zhì)、冶金、稀土及磁材料、環(huán)境、醫(yī)藥衛(wèi)生、生物、海洋、石油、化工新型材料、核工業(yè)、農(nóng)業(yè)、食品商檢、水質(zhì)等各領域及學科的樣品分析。可以快速、準確地檢測從微量到常量約70種元素。
Plasma 1000 單道掃描ICP光譜儀
1. 光路形式:Czerny-Turner型 單道掃描ICP光譜儀
2. 光室恒溫:(30±0.2)℃
3. 光柵類型:離子刻蝕全息平面光柵
4. 分辨率:不大于0.007nm
5. 刻線密度:3600g/mm
6. 高頻發(fā)生器震蕩頻率:40.68MHz 功率穩(wěn)定度:0.1%(長期25℃典型值)
7. 震蕩類型:自激式
8. 進樣方式:蠕動泵進樣 配有多種霧室(旋流霧室、雙筒霧室和耐氫氟酸霧室)
9. 霧化器:同心霧化器
10. 重復性:RSD ≤1.0%
11. 穩(wěn)定性:RSD ≤2.0%(2小時)
12. 冷卻氣:10-20L/min
13. 輔助氣:0-1.5 L/min
14. 載氣:0.4-1L/min
15. 尺寸:1550mm×759mm×1340mm(長×寬×高)
16. 重量:240公斤
Plasma 1000 單道掃描ICP光譜儀儀器特點:
1. 分析流程全自動化控制,實現(xiàn)軟件點火、氣路智能控制功能;
2. 輸出功率自動匹配調(diào)諧,功率參數(shù)程序設定;
3. 優(yōu)良的光學系統(tǒng),先進的控制系統(tǒng),保證峰位定位準確,信背比優(yōu)良;
4. 極小的基體效應;
5. 測量范圍寬,超微量到常量的分析,動態(tài)線性范圍5—6個數(shù)量級;
6. 檢出限低,大多數(shù)元素的檢出限可達ppb級;
7. 良好的測量精度,穩(wěn)定性相對標準偏差RSD≤1.5%(5ppm),優(yōu)于國家A級標準(JJG768-2005);
8. Rf輸出功率的范圍750-1500W,輸出功率穩(wěn)定性小于0.1%;
9. 光電倍增管的負高壓可在0-1000V范圍內(nèi)獨立可調(diào),可根據(jù)不同元素的不同譜線單獨設置條件,和全譜儀器比較有更好的檢出限;
10. 納克儀器采用高屏蔽和良好接地保證操作者的安全;
11. 高精度的光室恒溫系統(tǒng),保證儀器優(yōu)良的長短期精度;
12. 多通道蠕動泵進樣,保證儀器進樣均勻,工作穩(wěn)定;
13. 使用鈸銅彈片和特殊處理的屏蔽玻璃,在吸收紫外線同時使儀器輻射小于2V/m(JJG768-2005規(guī)定小于10V/m)。
14. 具有較高的譜線分辨率,能分出Hg313.154和313.183nm雙線譜線,能分出鐵的四重峰。
15. 人性化的軟件設計,操作方便,終身免費升級。功能強大、友好的人機界面分析軟件,可在測定過程中,進行數(shù)據(jù)處理,方法編制和結果分析,是真正的多任務工作軟件;該軟件數(shù)據(jù)處理功能強大,提供了多種方法,如內(nèi)標校正、IECS和QC監(jiān)測功能等,可獲得合適的背景扣除點以消除干擾;對輸出數(shù)據(jù)可直接打印或自動生成Excel格式的結果報告。
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公司名稱 鋼研納克檢測技術股份有限公司
聯(lián)系賣家 文先生 (QQ:415905311)
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