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鋼研納克檢測技術(shù)股份有限公司
鋼研納克檢測技術(shù)股份有限公司
店齡5年 · 企業(yè)認(rèn)證 · 北京市
主營產(chǎn)品: ICP光譜儀,電感耦合等離子體質(zhì)譜儀,電感耦合等離子體光譜儀,ICPOES
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光電直讀光譜儀公司-光譜儀火花直讀
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¥246750.00
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光學(xué)系統(tǒng) 帕邢 - 龍格架發(fā)
光柵焦距 750mm
刻線 2400 條 /mm
譜線范圍 170-500nm
一級色散率 0.55nm/mm
二級色散率 0.275nm/mm
分辨率 優(yōu)于 0.01nm
商品介紹
鋼研納克直讀光譜儀,業(yè)界標(biāo)桿產(chǎn)品,中國直讀光譜儀領(lǐng)跑者!源于中國冶金行業(yè)的科研機(jī)構(gòu)鋼鐵研究總院,具有70年金屬分析檢測經(jīng)驗(yàn),金屬檢測標(biāo)準(zhǔn)制定者。20年直讀光譜儀制造歷史,做更專業(yè)的光譜儀!直讀光譜儀國家標(biāo)準(zhǔn)GB/T4336起草單位,央企品牌,上市公司,品質(zhì)服務(wù)!
直讀光譜儀可廣泛應(yīng)用于冶金、鑄造、機(jī)械、鋼鐵和有色金屬等行業(yè),在汽車制造、航空航天、船舶、機(jī)電設(shè)備、工程機(jī)械、電子電工、教育、科研等領(lǐng)域的原料、零件、產(chǎn)品工藝研發(fā)方面都有廣泛的應(yīng)用??捎糜?Fe、Al、Cu、Ni、Co、Mg、Ti、Zn、Pb、 Sn、Mn 等金屬及其合金的樣品分析。
SparkCCD 6000 全 譜 火 花 直 讀 光 譜 儀 技 術(shù) 參 數(shù)
SparkCCD 6000全譜火花直讀光譜儀采用高分辨率線陣CCD(Charge-coupled Device)作為檢測器,實(shí)現(xiàn)全譜掃描。采用智能控制光室充氣系統(tǒng),儀器性能更穩(wěn)定,服務(wù)期限更長久。海量的譜線使分析不再受限,曲線分段跳轉(zhuǎn),同一元素不同譜線間實(shí)現(xiàn)無縫銜接,拓展分析范圍第三元素干擾校正使元素分析更加準(zhǔn)確,可以在用戶現(xiàn)場任意增加分析基體和分析元素而無需增加硬件,維護(hù)保養(yǎng)方便。能量、頻率連續(xù)可調(diào)全數(shù)字固態(tài)光源,適應(yīng)各種不同材料;網(wǎng)口采集傳輸,速度快,通用性更強(qiáng)。
應(yīng)用領(lǐng)域
Spark 6000 可廣泛應(yīng)用于冶金、鑄造、機(jī)械、鋼鐵和有色金屬等行業(yè),在汽車制造、航空航天、船舶、機(jī)電設(shè)備、工程機(jī)械、電子電工、教育、科研等領(lǐng)域的原料、零件、產(chǎn)品工藝研發(fā)方面都有廣泛的應(yīng)用。
適用基體
可用于 Fe、Al、Cu、Ni、Co、Mg、Ti、Zn、Pb、 Sn、Mn 等金屬及其合金的樣品分析。
Spark 6000 全譜火花直讀光譜儀技術(shù)優(yōu)勢
?帕邢 - 龍格架法
?光柵焦距 500mm
?高發(fā)光全息光柵,刻線為 2700 條 /mm
?譜線范圍:130-640nm
?色散率: 一級色散率:0.74nm/mm;二級色散率:0.37nm/mm
?分辨率:優(yōu)于 0.01nm
?不限檢測通道
?檢測器由多塊 CCD 組成
?高分辨率 CCD 檢測器
?單片 CCD 3648 個(gè)像素
?單像素尺寸僅為 8μm
?分析樣品重可達(dá) 50kg
?安全防護(hù)設(shè)備阻止不安全激發(fā)
?全新設(shè)計(jì)的共軸火花臺,采用優(yōu)化的內(nèi)部氣路,有效降 低氬氣的消耗量
?一體式透鏡隔離閥,易于更換,且可以避免由日常維護(hù)而引起的強(qiáng)度下降
?放電室設(shè)計(jì)獨(dú)特,保證放電在條件下進(jìn)行
?Windows 環(huán)境下的系統(tǒng)監(jiān)控軟件,控制并顯示光室真空度,顯示火花臺、光室溫度。
?操作簡單快捷,便于維修及調(diào)試
?放電參數(shù)由密碼保護(hù)
?光源頻率能量等參數(shù)連續(xù)可調(diào)
?高能預(yù)火花技術(shù),達(dá) 1000Hz
?網(wǎng)口數(shù)據(jù)采集方式,數(shù)據(jù)傳輸穩(wěn)定,對電腦的要求低
?多線程的數(shù)據(jù)采集方式,提高軟件的穩(wěn)定性,數(shù)據(jù)的可靠性
?采用全新的鑄造光室,熱膨脹系數(shù)極低,儀器的穩(wěn)定性高
?真空由真空泵和真空控制設(shè)備控制
?全新的真空泵隔離閥,穩(wěn)定可靠
?真空光學(xué)系統(tǒng),免氬氣沖洗
?氬氣消耗量低,僅為充氣型 CCD 光譜儀的 1/2—1/3,用戶日常使用成本低
?包括不同基體不同曲線的計(jì)算
?全中文分析軟件,方便用戶操作
?自主開發(fā)的爐料自動(dòng)配比軟件,根據(jù)測試結(jié)果自動(dòng)生成爐料配比方案
?多種通訊方式滿足不同用戶的需要,可將數(shù)據(jù)傳輸?shù)竭h(yuǎn)程終端或打印機(jī),進(jìn) 行在線分析、遠(yuǎn)程監(jiān)控、診斷與維修。
Spark 6000 全譜火花直讀光譜儀儀器特點(diǎn)
?采用多個(gè) CCD 對可用范圍內(nèi)的光譜譜線進(jìn)行全譜掃描
?激發(fā)能量、頻率連續(xù)可調(diào)全數(shù)字固態(tài)光源,適應(yīng)各種不同材料
?分析應(yīng)用覆蓋面廣泛,與傳統(tǒng)儀器相比,不受通道及基體限制
?單板式透鏡架,擦拭時(shí)大大降低對光室的污染
?網(wǎng)口 采集,通用性更強(qiáng)
?.真空泵隔離閥,提高長期運(yùn)行穩(wěn)定性
?銅火花臺底座,提高散熱性及堅(jiān)固性能
?氬氣消耗量低,僅為充氣型 CCD 光譜儀的 1/2—1/3
直讀光譜儀在檢測分析過程中由于各種因素的影響產(chǎn)生誤差是在所難免的,比如標(biāo)準(zhǔn)樣品和分析樣品成分不均勻、組織狀況不一致、光譜性能不穩(wěn)定、樣品表面處理不好、氬氣純度不夠等一個(gè)因素出現(xiàn)問題,就會影響到光電光譜分析誤差。了解其產(chǎn)生誤差的原因,采取有效的措施進(jìn)行消除或避免誤差,提高直讀光譜儀檢測結(jié)果的準(zhǔn)確性,是一項(xiàng)十分重要的研究課題。
光電光譜分析選用的分析線,必需符合下列要求。
直讀光譜分析時(shí),一般都采用內(nèi)標(biāo)法。因內(nèi)標(biāo)法進(jìn)行分析時(shí)常采用多條分析線和一條內(nèi)標(biāo)線組成,常用試料中的基體元素為內(nèi)標(biāo)元素。組成的線對要求均稱,就是當(dāng)激發(fā)光源有波動(dòng)時(shí),兩條線對的譜線強(qiáng)度雖有變化,但強(qiáng)度比或相對強(qiáng)度能保持不變。
如R表示強(qiáng)度比即 R=I1/I0
I1為分析線的強(qiáng)度,Io為內(nèi)標(biāo)線強(qiáng)度,表明I1和Io同時(shí)變,而R則不受影響。R與含量C之間有線性關(guān)系。
在光電直讀光譜分析時(shí),有很多分析通道,要安裝許多內(nèi)標(biāo)通道有困難,因此采用一個(gè)內(nèi)標(biāo)線。但有人認(rèn)為再要提高光電光譜分析的準(zhǔn)確度還得采用不同的內(nèi)標(biāo)線,這還有待于光電轉(zhuǎn)換元件的小型化來解決。
光電法時(shí),有時(shí)還用內(nèi)標(biāo)線來控制曝光量,稱為自動(dòng)曝光,也就是樣品在曝光時(shí),分析線和內(nèi)標(biāo)分別向各自積分電容充電,當(dāng)內(nèi)標(biāo)線的積分電容器充電達(dá)到某一預(yù)定的電壓時(shí),自動(dòng)截止曝光。此時(shí)分析線的積分電容器充電達(dá)到的電壓即代表分析線的強(qiáng)度I,并且亦即代表分析線的強(qiáng)度比R(因?yàn)镽=I1/Io,而此時(shí)Io保持常數(shù))這個(gè)強(qiáng)度I或強(qiáng)度比R就由測光讀數(shù)所表示。
現(xiàn)在一般采用計(jì)時(shí)曝光法較為普遍。
直讀光譜儀可廣泛應(yīng)用于冶金、鑄造、機(jī)械、鋼鐵和有色金屬等行業(yè),在汽車制造、航空航天、船舶、機(jī)電設(shè)備、工程機(jī)械、電子電工、教育、科研等領(lǐng)域的原料、零件、產(chǎn)品工藝研發(fā)方面都有廣泛的應(yīng)用??捎糜?Fe、Al、Cu、Ni、Co、Mg、Ti、Zn、Pb、 Sn、Mn 等金屬及其合金的樣品分析。
SparkCCD 6000 全 譜 火 花 直 讀 光 譜 儀 技 術(shù) 參 數(shù)
SparkCCD 6000全譜火花直讀光譜儀采用高分辨率線陣CCD(Charge-coupled Device)作為檢測器,實(shí)現(xiàn)全譜掃描。采用智能控制光室充氣系統(tǒng),儀器性能更穩(wěn)定,服務(wù)期限更長久。海量的譜線使分析不再受限,曲線分段跳轉(zhuǎn),同一元素不同譜線間實(shí)現(xiàn)無縫銜接,拓展分析范圍第三元素干擾校正使元素分析更加準(zhǔn)確,可以在用戶現(xiàn)場任意增加分析基體和分析元素而無需增加硬件,維護(hù)保養(yǎng)方便。能量、頻率連續(xù)可調(diào)全數(shù)字固態(tài)光源,適應(yīng)各種不同材料;網(wǎng)口采集傳輸,速度快,通用性更強(qiáng)。
應(yīng)用領(lǐng)域
Spark 6000 可廣泛應(yīng)用于冶金、鑄造、機(jī)械、鋼鐵和有色金屬等行業(yè),在汽車制造、航空航天、船舶、機(jī)電設(shè)備、工程機(jī)械、電子電工、教育、科研等領(lǐng)域的原料、零件、產(chǎn)品工藝研發(fā)方面都有廣泛的應(yīng)用。
適用基體
可用于 Fe、Al、Cu、Ni、Co、Mg、Ti、Zn、Pb、 Sn、Mn 等金屬及其合金的樣品分析。
Spark 6000 全譜火花直讀光譜儀技術(shù)優(yōu)勢
?帕邢 - 龍格架法
?光柵焦距 500mm
?高發(fā)光全息光柵,刻線為 2700 條 /mm
?譜線范圍:130-640nm
?色散率: 一級色散率:0.74nm/mm;二級色散率:0.37nm/mm
?分辨率:優(yōu)于 0.01nm
?不限檢測通道
?檢測器由多塊 CCD 組成
?高分辨率 CCD 檢測器
?單片 CCD 3648 個(gè)像素
?單像素尺寸僅為 8μm
?分析樣品重可達(dá) 50kg
?安全防護(hù)設(shè)備阻止不安全激發(fā)
?全新設(shè)計(jì)的共軸火花臺,采用優(yōu)化的內(nèi)部氣路,有效降 低氬氣的消耗量
?一體式透鏡隔離閥,易于更換,且可以避免由日常維護(hù)而引起的強(qiáng)度下降
?放電室設(shè)計(jì)獨(dú)特,保證放電在條件下進(jìn)行
?Windows 環(huán)境下的系統(tǒng)監(jiān)控軟件,控制并顯示光室真空度,顯示火花臺、光室溫度。
?操作簡單快捷,便于維修及調(diào)試
?放電參數(shù)由密碼保護(hù)
?光源頻率能量等參數(shù)連續(xù)可調(diào)
?高能預(yù)火花技術(shù),達(dá) 1000Hz
?網(wǎng)口數(shù)據(jù)采集方式,數(shù)據(jù)傳輸穩(wěn)定,對電腦的要求低
?多線程的數(shù)據(jù)采集方式,提高軟件的穩(wěn)定性,數(shù)據(jù)的可靠性
?采用全新的鑄造光室,熱膨脹系數(shù)極低,儀器的穩(wěn)定性高
?真空由真空泵和真空控制設(shè)備控制
?全新的真空泵隔離閥,穩(wěn)定可靠
?真空光學(xué)系統(tǒng),免氬氣沖洗
?氬氣消耗量低,僅為充氣型 CCD 光譜儀的 1/2—1/3,用戶日常使用成本低
?包括不同基體不同曲線的計(jì)算
?全中文分析軟件,方便用戶操作
?自主開發(fā)的爐料自動(dòng)配比軟件,根據(jù)測試結(jié)果自動(dòng)生成爐料配比方案
?多種通訊方式滿足不同用戶的需要,可將數(shù)據(jù)傳輸?shù)竭h(yuǎn)程終端或打印機(jī),進(jìn) 行在線分析、遠(yuǎn)程監(jiān)控、診斷與維修。
Spark 6000 全譜火花直讀光譜儀儀器特點(diǎn)
?采用多個(gè) CCD 對可用范圍內(nèi)的光譜譜線進(jìn)行全譜掃描
?激發(fā)能量、頻率連續(xù)可調(diào)全數(shù)字固態(tài)光源,適應(yīng)各種不同材料
?分析應(yīng)用覆蓋面廣泛,與傳統(tǒng)儀器相比,不受通道及基體限制
?單板式透鏡架,擦拭時(shí)大大降低對光室的污染
?網(wǎng)口 采集,通用性更強(qiáng)
?.真空泵隔離閥,提高長期運(yùn)行穩(wěn)定性
?銅火花臺底座,提高散熱性及堅(jiān)固性能
?氬氣消耗量低,僅為充氣型 CCD 光譜儀的 1/2—1/3
直讀光譜儀在檢測分析過程中由于各種因素的影響產(chǎn)生誤差是在所難免的,比如標(biāo)準(zhǔn)樣品和分析樣品成分不均勻、組織狀況不一致、光譜性能不穩(wěn)定、樣品表面處理不好、氬氣純度不夠等一個(gè)因素出現(xiàn)問題,就會影響到光電光譜分析誤差。了解其產(chǎn)生誤差的原因,采取有效的措施進(jìn)行消除或避免誤差,提高直讀光譜儀檢測結(jié)果的準(zhǔn)確性,是一項(xiàng)十分重要的研究課題。
光電光譜分析選用的分析線,必需符合下列要求。
直讀光譜分析時(shí),一般都采用內(nèi)標(biāo)法。因內(nèi)標(biāo)法進(jìn)行分析時(shí)常采用多條分析線和一條內(nèi)標(biāo)線組成,常用試料中的基體元素為內(nèi)標(biāo)元素。組成的線對要求均稱,就是當(dāng)激發(fā)光源有波動(dòng)時(shí),兩條線對的譜線強(qiáng)度雖有變化,但強(qiáng)度比或相對強(qiáng)度能保持不變。
如R表示強(qiáng)度比即 R=I1/I0
I1為分析線的強(qiáng)度,Io為內(nèi)標(biāo)線強(qiáng)度,表明I1和Io同時(shí)變,而R則不受影響。R與含量C之間有線性關(guān)系。
在光電直讀光譜分析時(shí),有很多分析通道,要安裝許多內(nèi)標(biāo)通道有困難,因此采用一個(gè)內(nèi)標(biāo)線。但有人認(rèn)為再要提高光電光譜分析的準(zhǔn)確度還得采用不同的內(nèi)標(biāo)線,這還有待于光電轉(zhuǎn)換元件的小型化來解決。
光電法時(shí),有時(shí)還用內(nèi)標(biāo)線來控制曝光量,稱為自動(dòng)曝光,也就是樣品在曝光時(shí),分析線和內(nèi)標(biāo)分別向各自積分電容充電,當(dāng)內(nèi)標(biāo)線的積分電容器充電達(dá)到某一預(yù)定的電壓時(shí),自動(dòng)截止曝光。此時(shí)分析線的積分電容器充電達(dá)到的電壓即代表分析線的強(qiáng)度I,并且亦即代表分析線的強(qiáng)度比R(因?yàn)镽=I1/Io,而此時(shí)Io保持常數(shù))這個(gè)強(qiáng)度I或強(qiáng)度比R就由測光讀數(shù)所表示。
現(xiàn)在一般采用計(jì)時(shí)曝光法較為普遍。
聯(lián)系方式
公司名稱 鋼研納克檢測技術(shù)股份有限公司
聯(lián)系賣家 文先生 (QQ:415905311)
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地址 北京市