光譜儀按照應(yīng)用可分為：分子類(lèi)光譜儀，原子類(lèi)光譜儀
原子類(lèi)光譜儀的按原理分為：原子發(fā)射光譜儀，原子吸收光譜儀，原子熒光光譜儀；
其中原子發(fā)射光譜儀又稱(chēng)為光電直讀光譜儀；按照激發(fā)原理又分：火花直讀光譜儀和電弧直讀光譜儀；
根據(jù)光譜儀器的體積,光譜儀可以分為兩大類(lèi):便攜式光譜儀和臺(tái)式（立式）光譜儀。光譜儀器按照檢測(cè)器可分為:通道式光電倍增光PMT光譜儀和全譜CCD光譜儀。
直讀光譜儀常見(jiàn)的桌面和兩個(gè)垂直平面。直讀光譜儀是廣泛應(yīng)用于鑄造、鋼鐵、金屬回收和精煉和軍事工業(yè)、航空、電力、化工、高校和商品檢驗(yàn)、質(zhì)量控制等。

光譜起源于17世紀(jì)，1666年物理學(xué)家牛頓次進(jìn)行了光的色散實(shí)驗(yàn)。他在暗室中引入一束太陽(yáng)光，讓它通過(guò)棱鏡，在棱鏡后面的自屏上，看到了紅、橙、黃、綠、蘭、靛、紫七種顏色的光分散在不同位置上——即形成一道彩虹。這種現(xiàn)象叫作光譜．這個(gè)實(shí)驗(yàn)就是光譜的起源，自牛頓以后，一直沒(méi)有引起人們的注意。
經(jīng)歷了100多年的發(fā)展探索與研究，1859年克?；舴蚝捅旧鸀榱搜芯拷饘俚墓庾V自己設(shè)計(jì)和制造了一種完善的分光裝置，這個(gè)裝置就是世界上臺(tái)實(shí)用的光譜儀器，研究火焰、電火花中各種金屬的譜線，從而建立了光譜分析的初步基礎(chǔ)。直至1882年，羅蘭發(fā)明了凹面光柵，即是把劃痕直接刻在凹球面上。凹面光柵實(shí)際上是光學(xué)儀器成象系統(tǒng)元件的合為一體的高效元件，它解決了當(dāng)時(shí)棱鏡光譜儀所遇到的不可克服的困難。凹面光柵的問(wèn)世不僅簡(jiǎn)化了光譜儀器的結(jié)構(gòu)，而且還提高了它的性能。
1928年以后，由于光譜分析成了工業(yè)的分析方法，光譜儀器得到迅速的發(fā)展，一方面改善激發(fā)光源的穩(wěn)定性，另一方面提高光譜儀器本身性能。
早的光源是火焰激發(fā)光譜；后來(lái)又發(fā)展應(yīng)用簡(jiǎn)單的電弧和電火花為激發(fā)光源，在上世紀(jì)的三十、四十年代改進(jìn)采用控制的電弧和電火花為激發(fā)光源，提高了光譜分析的穩(wěn)定性。工業(yè)生產(chǎn)的發(fā)晨，光譜學(xué)的進(jìn)步，促使光學(xué)儀器進(jìn)一步得到改善，而后者又反作用于前者，促進(jìn)了光譜學(xué)的發(fā)展和工業(yè)生產(chǎn)的發(fā)展。
六十年代光電直讀光譜儀，隨著計(jì)算機(jī)技術(shù)的發(fā)展開(kāi)始迅速發(fā)展。由于計(jì)算機(jī)技術(shù)的發(fā)展，電子技術(shù)的發(fā)展，電子計(jì)算機(jī)的小型化及微處理機(jī)的出現(xiàn)和普及，成本降低等原因、于上世紀(jì)的七十年代光譜儀器幾乎100％地采用計(jì)算機(jī)控制，這不僅提高了分析精度和速度，而且對(duì)分析結(jié)果的數(shù)據(jù)處理和分析過(guò)程實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化控制。
解放后，我國(guó)的光譜儀器工業(yè)從無(wú)到有，由小到大，得到飛躍的發(fā)展，且具有一定的規(guī)模，與世界先進(jìn)技術(shù)競(jìng)爭(zhēng)中求生存，社會(huì)商品競(jìng)賽中得到發(fā)展。
1958年開(kāi)始試制光譜儀器，生產(chǎn)了我國(guó)臺(tái)中型石英攝譜儀，大型攝譜儀，單色儀等。中科院光機(jī)所開(kāi)始研究刻制光柵，59年上海光學(xué)儀器廠，63年北京光學(xué)儀器廠開(kāi)始研究刻制光柵，63年研制光刻成功。1966—1968年北京光學(xué)儀器廠和上海光學(xué)儀器廠先后研制成功中型平面光柵攝譜儀和一米平面光柵攝譜儀及光電直讀頭。1971—1972年由北京第二光學(xué)儀器廠研究成功國(guó)內(nèi)臺(tái)WZG—200平面光柵光量計(jì)，結(jié)束了我國(guó)不能生產(chǎn)光電直讀光譜儀的歷史。

直讀光譜儀的分辨率受到入縫寬度、出縫寬度、光柵刻線數(shù)、光譜儀的焦距、光線入射角、光譜級(jí)次等因素的綜合影響,其中全譜和多道直讀光譜儀的主要區(qū)別在于出入縫寬度、光柵刻線數(shù)和焦距的不同.全譜型直讀光譜儀雖然焦距比較小,但其采用了更窄的入縫和更高刻線數(shù)的光柵,因此其光學(xué)分辨率與大型多道光譜儀相當(dāng);而且大型多道直讀光譜儀采用PMT作為檢測(cè)器,必須配合出縫來(lái)選擇光譜,受制于光譜強(qiáng)度、出縫的加工和光學(xué)調(diào)試難度等因素的影響,出縫寬度通常在50μm左右,影響了多道光譜儀的分辨能力.而全譜型直讀光譜儀采用CCD作為檢測(cè)器,其像素寬度僅為10μm左右,大大提高了光譜的分辨能力.

目前直讀光譜儀被得到了廣泛的應(yīng)用，在關(guān)于鋁及鋁合金的分析中使用光電直讀光譜儀，使用直讀光譜儀分析鋁及鋁合金得到準(zhǔn)確的結(jié)果,需要做到以下幾點(diǎn)：
一、要做好標(biāo)準(zhǔn)化工作。為了調(diào)節(jié)因電子元件、光源、分光系統(tǒng)等因素的變化而引起的工作曲線的漂移,分析試樣前應(yīng)對(duì)工作曲線做好標(biāo)準(zhǔn)化。
二、合理使用標(biāo)樣或控樣。為了解決因進(jìn)口的標(biāo)準(zhǔn)化樣品與本廠試樣結(jié)構(gòu)狀態(tài)等不同而造成的差異及第三元素的影響,應(yīng)采用與待測(cè)試樣成分相近、組織結(jié)構(gòu)相同的標(biāo)樣或控樣來(lái)校正。
三、分析標(biāo)樣或控樣與分析試樣時(shí)的條件必須一致,方能保證試樣分析數(shù)據(jù)準(zhǔn)確可靠。這些條件包括:分析面的平整度、光潔度,氬氣的流量和純度,溫度濕度,分析間隙和火花臺(tái)狀況等。
四、儀器維護(hù)非常重要,特別是日常維護(hù)內(nèi)容必須及時(shí)完成,這是保證儀器良好運(yùn)行的前提。平時(shí)工作時(shí)要留心觀察,當(dāng)聽(tīng)到聲音不正?；蚩吹讲徽，F(xiàn)象,或聞到不正常的氣味時(shí),要立即停止分析,及時(shí)檢查、判斷、處理,儀器正常后方可進(jìn)行分析工作,切不可讓儀器帶病工作。