PlasmaMS 300型電感耦合等離子體質(zhì)譜儀簡稱PlasmaMS 300，是鋼研納克檢測技術(shù)股份有限公司推出的ICP質(zhì)譜儀，作為一種精密無機(jī)元素分析儀器，它具有以下特點(diǎn)：
1.1.1 進(jìn)樣系統(tǒng)
1) 進(jìn)樣系統(tǒng)應(yīng)外置, 便于操作、更換和清洗；
2) 采用進(jìn)口霧化器，霧化效率高,不易堵塞；
3) 進(jìn)樣管路的長度盡可能短, 減少了記憶效應(yīng)。；
4) 儀器配備系列經(jīng)過優(yōu)化的進(jìn)樣系統(tǒng)，可用于有機(jī)溶劑、高鹽/復(fù)雜基體樣品、含氫氟酸（HF）等樣品的測試；
5) 使用質(zhì)量流量控制器控制冷卻氣、輔助氣和載氣的流量，保障測試性能長期穩(wěn)定；
6) 4通道12滾輪進(jìn)口蠕動泵，提升樣品導(dǎo)入穩(wěn)定性和均勻性。
1.1.2 ICP離子源
1) 自激式固態(tài)射頻發(fā)生器，體積小巧，效率高，功率可通過反饋調(diào)節(jié)，實(shí)現(xiàn)較高的穩(wěn)定性；
2) 自動匹配速度快，保證了點(diǎn)火成功率；
3) 精準(zhǔn)控制的三維移動平臺，實(shí)現(xiàn)了炬管自動定位及自動校準(zhǔn)的功能；
4) 快速插拔式氣管連接, 方便拆卸；
5) 快速插拔式氣管連接, 方便拆卸。
1.1.3 接口單元
1) 保持樣品離子的完整性的同時(shí)，限度的讓所生成的離子通過；
2) 氧化物和二次離子產(chǎn)率盡可能低；
3) 等離子體的二次放電盡可能小
4) 不易堵塞，產(chǎn)生熱量盡可能少；
5) 易于拆卸和維護(hù)：錐口拆冼過程中，不影響真空系統(tǒng)，無需卸真空；
1.1.4 離子傳輸系統(tǒng)
1) 連續(xù)偏轉(zhuǎn)設(shè)計(jì)的離子光學(xué)系統(tǒng)的消除中子和光子的干擾
2) 優(yōu)異的六極桿離子鏡系統(tǒng)優(yōu)化了離子傳輸效率，聚集盡可能多的要測定的離子沿同樣方向進(jìn)入四極桿
3) 帶動能歧視效應(yīng)的碰撞反應(yīng)池技術(shù)，有效消除由樣品基體或等離子體源引起的多原子離子干擾；
1.1.5 四極桿質(zhì)量分析系統(tǒng)
1) 自主研發(fā)的四極桿電源采用了數(shù)字直接頻率合成(DDS)技術(shù)，能夠進(jìn)行自動頻率匹配調(diào)諧，使得儀器的自動化程度和安全性能有了進(jìn)一步提高；
2) 內(nèi)部無連接線、頂部進(jìn)入的無線纜設(shè)計(jì)，使裝配更為方便,增加儀器的一致性和可靠性；
3) 的四極桿尺寸結(jié)合全固態(tài)四極桿RF發(fā)生器, 帶來的分辨率和長期穩(wěn)定性，具有同時(shí)記錄所有元素譜線的“攝譜”功能，并能存儲和檢索；
4) 結(jié)合六極桿離子鏡系統(tǒng)和的真空系統(tǒng), 帶來的靈敏度；
1.1.6 離子檢測和數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)
1) 采用不連續(xù)打拿極電子倍增器；
2) 即插即用設(shè)計(jì), 沒有任何連接線, 方便更換；
3) 軟件硬件控制檢測器過荷保護(hù)
4) 三種數(shù)據(jù)采集模式，全質(zhì)量連續(xù)掃描； 跳峰掃描；兩者結(jié)合的掃描。
1.1.7 真空系統(tǒng)
1) 自主開發(fā)了的真空采集控制系統(tǒng)，全自動整機(jī)真空保護(hù)，保證儀器的正常工作；
2) 先進(jìn)的緩沖技術(shù)，機(jī)械泵間斷運(yùn)行，實(shí)現(xiàn)了極低的待機(jī)功耗；
3) 獨(dú)特的防粉塵、防返油霧設(shè)計(jì)，有效隔斷油氣，解決機(jī)械泵油氣污染問題，確保了儀器的超高真空潔凈系統(tǒng)
1.1.8 控制系統(tǒng)
1) 具有包括溫度、水流、氣壓、位置狀態(tài)監(jiān)控功能等，上提供儀器保護(hù)，延長使用壽命；
2) 使用CAN總線結(jié)構(gòu), 其獨(dú)特的編碼方式具有的穩(wěn)定性和抗干擾能力；
3) 利用CAN總線的獨(dú)特優(yōu)勢, 儀器增加的任何功能均為即插即用模式, 非常方便。
1.1.9 軟件系統(tǒng)
1) 儀器測試各參數(shù)、自動調(diào)諧、三維移動平臺、透鏡電源等參數(shù)靈活設(shè)置；
2) 全中文的軟件界面，符合中國人的思維習(xí)慣，參數(shù)監(jiān)控和方法設(shè)置直觀快捷；可提供一鍵式（調(diào)諧、測試等）操作的功能；
3) 軟件可查看各個(gè)部件的實(shí)時(shí)運(yùn)行狀態(tài)以及故障報(bào)錯(cuò)，確保儀器的安全運(yùn)行

PlasmaMS 300在金屬工業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用
痕量元素含量的變化對材料性能和生產(chǎn)控制有巨大影響。
PlasmaMS 300 PLASMAMS 300能在主要元素存在的條件下精確測定痕量元素，使用跳峰掃模式可以避 免主量元素、其氧化物、其雙電荷、其氫化物等的干擾，選擇同位素時(shí)應(yīng)注意避免基體離 子干擾。
應(yīng)用領(lǐng)域：
在研發(fā)和專業(yè)化學(xué)應(yīng)用領(lǐng)域有較廣的范圍 高純陶瓷和化學(xué)品
金屬和玻璃 產(chǎn)品純度驗(yàn)證

鋼研納克同時(shí)也是全球知名的標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)提供商，都提供標(biāo)樣，很多是以混標(biāo)的形式包含了用戶要求濃度的多種元素，可以方便 地用于 PLASMAMS 300 分析。
此外您也可以從鋼研納克購買單標(biāo)---10,000/1,000 ppm的單標(biāo)母液。
但是，考慮到各個(gè)元素自身的物理化學(xué)特性，以及它們在酸中的穩(wěn)定性，或者它們與溶液 中其他元素的共存穩(wěn)定性等各種特性，在配置混標(biāo)的過程中必須格外小心。
當(dāng)配置自用的復(fù)合標(biāo)準(zhǔn)品時(shí)，應(yīng)注意
? 此外高濃度能降低分析元素的損失,如瓶壁吸附
? 不是溶液中所有的元素均需要達(dá)到10ppm的線性范圍
? 也要小心不要混合產(chǎn)生相互反應(yīng)的元素否則可能產(chǎn)生沉淀,如在S存在下的Ba。
? 在制備標(biāo)樣或者樣品的過程中，請確認(rèn)您的去離子水系統(tǒng)能夠正常工作，一 般超純水的電阻率應(yīng)該在18.2 MΩ/cm左右。
? 在此過程中使用的試劑例如酸試劑，也應(yīng)該是純度的。
? 移液管(pipettes)或其他類似器具不能直接伸入試劑或母液容器里。
? 確保PLASMAMS 300的工作容器都是塑料的（例如PFA, FEP, PTFE, LDPE, HDPE, PMP 或PP），盡量不要用玻璃容器(Pb,Hg等可以用玻璃)。
? 在制備標(biāo)樣或者樣品的過程中，盡量減少稀釋步驟。
? 應(yīng)當(dāng)使用經(jīng)過校準(zhǔn)的微量移液器（例如移液），并且使用一次性塑料頭。
? 應(yīng)當(dāng)在通風(fēng)櫥里面進(jìn)行制備，以盡量避免空氣流通帶來的污染。
? 為了得到的檢出限，凡是在制備過程中會與標(biāo)樣或者樣品接觸的容器和 器具都應(yīng)當(dāng)在使用前經(jīng)過酸液浸泡。

PlasmMS 300儀器使用環(huán)境和工作條件
1) 環(huán)境溫度：15℃～26℃，室內(nèi)氣溫變化每小時(shí)不超過3攝氏度，推薦室溫22℃；
2) 相對濕度：20～60%，無冷凝。濕度大的地區(qū)請配備除濕機(jī)；
3) Ar純度>99.996%，配備輸出量程為1-1.6Mpa或0-2.5Mpa的氧氣壓力表或氮?dú)鈮毫Ρ?，引入儀器的Ar壓力0.55Mpa~0.65Mpa，氬氣輸出端配6mm管適配器。儀器正常點(diǎn)火工作時(shí)用氣量15L/min；如果選配了He碰撞氣，請準(zhǔn)備He減壓閥及氣瓶一個(gè)，減壓閥量程0-0.25Mpa或者0-0.4Mpa，減壓閥后端接4mm管適配器，He氣濃度>99.999%。
4) 供電電源：總供電三相五線(3相線，零線，地線)，額定電流40A以上；主機(jī)供電需要220V單相三線(火、零、地)供電，需要不帶漏電保護(hù)的兩線或3線的32A額定電流空氣開關(guān)一個(gè)。
5) 要求通風(fēng)速度~250m3/h，在儀器抽風(fēng)口處的氣流速度~8.8m/s (請注意，這不是風(fēng)機(jī)的抽速要求)，建議在抽風(fēng)口加節(jié)流閥，以便調(diào)整風(fēng)速。
6) 儀器應(yīng)當(dāng)置于無煙，無腐蝕性的環(huán)境下，無振動，不受陽光直射，遠(yuǎn)離易燃易爆危險(xiǎn)品；
7) 接地良好（接地電阻≤4Ω）。