光譜分析儀器的分析的過(guò)程是將被測(cè)物質(zhì)的試樣引入光源中，給以外界的能量，使試樣蒸發(fā)成氣態(tài)原子，并且使氣態(tài)原子的外層電子由低能態(tài)激發(fā)至高能態(tài)，處于高能 態(tài)的原子很不穩(wěn)定要躍遷至基態(tài)或低能態(tài)，便產(chǎn)生了輻射。由于被分析試樣中含有不同的原子就會(huì)產(chǎn)生不同波長(zhǎng)的輻射，對(duì)于所產(chǎn)生輻射經(jīng)過(guò)攝譜儀進(jìn)行分光就會(huì)在 感光板上得到按波長(zhǎng)順序排列的有規(guī)則的譜線，通過(guò)儀器的觀察辨認(rèn)各種特征波長(zhǎng)的譜線存在情況就是光譜定性分析。如果用光譜分析儀器進(jìn)一步測(cè)量就是光譜的定 量分析。

直讀光譜儀的分辨率受到入縫寬度、出縫寬度、光柵刻線數(shù)、光譜儀的焦距、光線入射角、光譜級(jí)次等因素的綜合影響,其中全譜和多道直讀光譜儀的主要區(qū)別在于出入縫寬度、光柵刻線數(shù)和焦距的不同.全譜型直讀光譜儀雖然焦距比較小,但其采用了更窄的入縫和更高刻線數(shù)的光柵,因此其光學(xué)分辨率與大型多道光譜儀相當(dāng);而且大型多道直讀光譜儀采用PMT作為檢測(cè)器,必須配合出縫來(lái)選擇光譜,受制于光譜強(qiáng)度、出縫的加工和光學(xué)調(diào)試難度等因素的影響,出縫寬度通常在50μm左右,影響了多道光譜儀的分辨能力.而全譜型直讀光譜儀采用CCD作為檢測(cè)器,其像素寬度僅為10μm左右,大大提高了光譜的分辨能力.

Labspark 750T技術(shù)特點(diǎn)
?原位單次放電采集的專利技術(shù)（SDA）有效提高分析精度
?單板式透鏡架，擦拭時(shí)大大降低對(duì)光室的污染
?基于 ARM9 的儀器狀態(tài)實(shí)時(shí)監(jiān)控系統(tǒng)
?固態(tài)吸附阱，防止油氣對(duì)光室的污染，提高長(zhǎng)期運(yùn)行穩(wěn)定性
?綠光背景燈，加快響應(yīng)速度，提高短期分析精度
?·銅火花臺(tái)底座，提高散熱性及堅(jiān)固性。
?·激發(fā)能量、頻率連續(xù)可調(diào)全數(shù)字固態(tài)光源，適應(yīng)各種不同材料。
?可變延時(shí)積分技術(shù)，大大降低背景干擾。
?高精度光電倍增管負(fù)高壓獨(dú)立供電連續(xù)可調(diào)技術(shù)，調(diào)整更精確，可程序調(diào)整，提高動(dòng)態(tài)范圍。
?網(wǎng)口采集，通用性更強(qiáng)。
?真空光室由特殊材質(zhì)制作：極低的熱膨脹系數(shù)，受溫度波動(dòng)影響小。
?全新光室結(jié)構(gòu)：可輕松檢測(cè) Li、Na、K 等長(zhǎng)波元素以及極短波長(zhǎng)元素或干擾嚴(yán)重的元素，如 N、P、S、B、Sb 等。
?內(nèi)置疲勞背景燈：有效降低光電倍增管暗電流對(duì)信號(hào)
?收集的影響，提高信噪比，延長(zhǎng)光電倍增管的使用壽命。
?自動(dòng)描跡：全新設(shè)計(jì)的自動(dòng)描跡系統(tǒng)，快速精準(zhǔn)，大大提高了儀器分析效率并降低了操作難度，提供自動(dòng)與手動(dòng)描跡切換功能。
?全新設(shè)計(jì)的共軸火花臺(tái)：采用優(yōu)化的內(nèi)部氣路，大大減少了氬氣的消耗量，減少了火花臺(tái)內(nèi)部的殘留金屬粉塵并且提高了儀器分析數(shù)據(jù)時(shí)的穩(wěn)定性。

根據(jù)儀器的結(jié)構(gòu)不同,又可分為多道直讀光譜儀和全譜直讀光譜儀,其中前者多采用光電倍增管作為檢測(cè)器,后者多采用陣列檢測(cè)器(如CCD).
隨著CCD技術(shù)的不斷發(fā)展,直讀光譜儀開(kāi)始朝小型化、全譜型方向發(fā)展.小型化儀器功耗小,占用空間小且易于維護(hù);全譜直讀光譜儀能夠獲得全波段范圍內(nèi)的光譜,滿足多基體分析要求,譜線選擇靈活,可以有效扣除光譜干擾,分析更準(zhǔn)確,而多道直讀光譜儀只能檢測(cè)有限數(shù)量的光譜,很難做到這一點(diǎn).