PlasmaMS 300型電感耦合等離子體質(zhì)譜儀簡稱PlasmaMS 300，是鋼研納克檢測技術股份有限公司推出的ICP質(zhì)譜儀，作為一種精密無機元素分析儀器，它具有以下特點：
1.1.1 進樣系統(tǒng)
1) 進樣系統(tǒng)應外置, 便于操作、更換和清洗；
2) 采用進口霧化器，霧化效率高,不易堵塞；
3) 進樣管路的長度盡可能短, 減少了記憶效應。；
4) 儀器配備系列經(jīng)過優(yōu)化的進樣系統(tǒng)，可用于有機溶劑、高鹽/復雜基體樣品、含氫氟酸（HF）等樣品的測試；
5) 使用質(zhì)量流量控制器控制冷卻氣、輔助氣和載氣的流量，保障測試性能長期穩(wěn)定；
6) 4通道12滾輪進口蠕動泵，提升樣品導入穩(wěn)定性和均勻性。
1.1.2 ICP離子源
1) 自激式固態(tài)射頻發(fā)生器，體積小巧，效率高，功率可通過反饋調(diào)節(jié)，實現(xiàn)較高的穩(wěn)定性；
2) 自動匹配速度快，保證了點火成功率；
3) 精準控制的三維移動平臺，實現(xiàn)了炬管自動定位及自動校準的功能；
4) 快速插拔式氣管連接, 方便拆卸；
5) 快速插拔式氣管連接, 方便拆卸。
1.1.3 接口單元
1) 保持樣品離子的完整性的同時，限度的讓所生成的離子通過；
2) 氧化物和二次離子產(chǎn)率盡可能低；
3) 等離子體的二次放電盡可能小
4) 不易堵塞，產(chǎn)生熱量盡可能少；
5) 易于拆卸和維護：錐口拆冼過程中，不影響真空系統(tǒng)，無需卸真空；
1.1.4 離子傳輸系統(tǒng)
1) 連續(xù)偏轉設計的離子光學系統(tǒng)的消除中子和光子的干擾
2) 優(yōu)異的六極桿離子鏡系統(tǒng)優(yōu)化了離子傳輸效率，聚集盡可能多的要測定的離子沿同樣方向進入四極桿
3) 帶動能歧視效應的碰撞反應池技術，有效消除由樣品基體或等離子體源引起的多原子離子干擾；
1.1.5 四極桿質(zhì)量分析系統(tǒng)
1) 自主研發(fā)的四極桿電源采用了數(shù)字直接頻率合成(DDS)技術，能夠進行自動頻率匹配調(diào)諧，使得儀器的自動化程度和安全性能有了進一步提高；
2) 內(nèi)部無連接線、頂部進入的無線纜設計，使裝配更為方便,增加儀器的一致性和可靠性；
3) 的四極桿尺寸結合全固態(tài)四極桿RF發(fā)生器, 帶來的分辨率和長期穩(wěn)定性，具有同時記錄所有元素譜線的“攝譜”功能，并能存儲和檢索；
4) 結合六極桿離子鏡系統(tǒng)和的真空系統(tǒng), 帶來的靈敏度；
1.1.6 離子檢測和數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)
1) 采用不連續(xù)打拿極電子倍增器；
2) 即插即用設計, 沒有任何連接線, 方便更換；
3) 軟件硬件控制檢測器過荷保護
4) 三種數(shù)據(jù)采集模式，全質(zhì)量連續(xù)掃描； 跳峰掃描；兩者結合的掃描。
1.1.7 真空系統(tǒng)
1) 自主開發(fā)了的真空采集控制系統(tǒng)，全自動整機真空保護，保證儀器的正常工作；
2) 先進的緩沖技術，機械泵間斷運行，實現(xiàn)了極低的待機功耗；
3) 獨特的防粉塵、防返油霧設計，有效隔斷油氣，解決機械泵油氣污染問題，確保了儀器的超高真空潔凈系統(tǒng)
1.1.8 控制系統(tǒng)
1) 具有包括溫度、水流、氣壓、位置狀態(tài)監(jiān)控功能等，上提供儀器保護，延長使用壽命；
2) 使用CAN總線結構, 其獨特的編碼方式具有的穩(wěn)定性和抗干擾能力；
3) 利用CAN總線的獨特優(yōu)勢, 儀器增加的任何功能均為即插即用模式, 非常方便。
1.1.9 軟件系統(tǒng)
1) 儀器測試各參數(shù)、自動調(diào)諧、三維移動平臺、透鏡電源等參數(shù)靈活設置；
2) 全中文的軟件界面，符合中國人的思維習慣，參數(shù)監(jiān)控和方法設置直觀快捷；可提供一鍵式（調(diào)諧、測試等）操作的功能；
3) 軟件可查看各個部件的實時運行狀態(tài)以及故障報錯，確保儀器的安全運行

PlasmaMS 300在金屬工業(yè)領域的應用
痕量元素含量的變化對材料性能和生產(chǎn)控制有巨大影響。
PlasmaMS 300 PLASMAMS 300能在主要元素存在的條件下精確測定痕量元素，使用跳峰掃模式可以避 免主量元素、其氧化物、其雙電荷、其氫化物等的干擾，選擇同位素時應注意避免基體離 子干擾。
應用領域：
在研發(fā)和專業(yè)化學應用領域有較廣的范圍 高純陶瓷和化學品
金屬和玻璃 產(chǎn)品純度驗證

非質(zhì)譜干擾(物理干擾)是PlasmaMS 300中存在的兩種主要干擾中的一種。 非質(zhì)譜干擾主要包括： 1.質(zhì)譜內(nèi)沉積物：可以通過適當?shù)那鍧嵍档汀?br>2.樣品基體：這種干擾有時候可通過不同的樣品制備方法或適合的性能選項來降低，如使 用超聲霧化器(ultrasonic nebulizer ,USN) 或者氬氣稀釋器(Argon Gas Dilution???) 。
有五種方法可以用來校正這種類型的干擾，按照從易到難的順序排列在下面：
1. 如果檢出限允許的話，簡單的辦法是對樣品進行稀釋。
2. 使用內(nèi)標校正
3. 使用標準加入法
4. 氬氣稀釋 (前提是需要使用ESI進樣系統(tǒng))
5. 采用化學分離法將樣品中的基體進行分離去除 非質(zhì)譜干擾(物理干擾)的存在有兩種表現(xiàn)形式：信號抑制、信號漂移。其中內(nèi)標校正是使
用廣泛的用來校正物理干擾的技術手段。
在進行多樣品序列分析時，內(nèi)標可以用來校正隨著時間推移而發(fā)生的信號漂移。實驗室環(huán) 境變化、樣品基體變化、樣品粘度變化等因素都會引起信號的漂移。錐口鹽沉積也會引起 信號的漂移。
如果需要測量的元素覆蓋的質(zhì)量區(qū)間范圍很大 (例如方法中既包含高質(zhì)量元素，也包含中 質(zhì)量元素或輕質(zhì)量元素)，使用多種內(nèi)標進行校正。
在本章第三節(jié)(內(nèi)標選擇)中已經(jīng)詳細介紹過內(nèi)標的使用原則，用戶可以進行參考。
標準加入法是另外一種廣泛使用的用來校正非質(zhì)譜干擾的手段。當基體抑制效應無法通過 稀釋或基體剝離來去除的時候，可以用標準加入法來降低干擾。

PLASMAMS 300 在不同行業(yè)的應用與干擾
地質(zhì)樣品通常難以消解。相比之下，激光消融幾乎不需要任何樣品制備，僅僅 需要將樣品切至適合激光消融池的大小。
在這一領域中，樣品多種多樣，質(zhì)譜分布范圍很廣，因此此類應用為廣泛和復雜。在單 個礦物或樣品(minerals or phases)中，可能既需要分析痕量金屬含量，又需要進行同位 素信息掃描。
由于在這類樣品中存在著大量的稀土元素(rare earth elements)，因此在這類地質(zhì)樣品中 常見的干擾就是氧化物干擾和雙電荷干擾。
應用領域:
巖石稀土分析和巖石消解 激光消融分析礦物
同位素比例研究地球及外來物質(zhì)的原始和進化 水沉積物和地下水