吹氬的主要作用是試樣激發(fā)時趕走火花室內(nèi)的空氣，減小空氣對紫外光區(qū)譜線的吸收。主要是因為空氣中的氧氣、水蒸氣在遠紫外區(qū)具有強烈的吸收帶，對分析結(jié)果造成很大的影響，且不利于激發(fā)穩(wěn)定，形成或加強擴散放電，激發(fā)時產(chǎn)生白點。另外，樣品中的合金元素在高溫情況下可能會與空氣中成分發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成分子化合物，從而會有分析光譜對我們所需的原子光譜造成干擾。因此必須要求氬氣的純度達到99.999％ 以上。另外，氬氣的壓力和流量也對分析質(zhì)量有一定影響，它決定氬氣對放電表面的沖擊能力，這種激發(fā)能力必須適當(dāng)，過低，不足以將試樣激發(fā)過程中產(chǎn)生的氧氣和它形成的氧化物沖掉，這些氧化物凝集在電極表面上，從而抑制試樣的繼續(xù)激發(fā)；氬氣流量過大，一是造成不必要的浪費。二是對光譜儀也有一定的損傷。因此氬氣壓力和流量必須適當(dāng)。據(jù)實踐證明，氬氣的壓力和流量，應(yīng)根據(jù)不同材質(zhì)進行調(diào)節(jié)，對中低合金鋼的分析，輸入光譜儀的氬氣壓力應(yīng)達到0.5—1.5MPa，動態(tài)氬的流量為12～ 20個讀數(shù)，靜態(tài)氬的流量為3～5個讀數(shù)。

在實際工作中，由于試樣和標(biāo)準(zhǔn)樣品的冶金過程和某些物理狀態(tài)的差異，常常使工作曲線發(fā)生變化，通常標(biāo)準(zhǔn)樣品多為鍛造和軋制狀態(tài)，而日常分析為澆鑄狀態(tài)。為了避免試樣因冶金狀態(tài)變化給分析結(jié)果帶影響，常常應(yīng)使用一個與分析試樣冶金狀態(tài)和物理狀態(tài)都一樣的控樣，來控制分析結(jié)果，控樣的元素含量應(yīng)位于工作曲線含量范圍內(nèi)，并與分析試樣的含量越接近越好。同時，控制樣品的元素含量應(yīng)當(dāng)準(zhǔn)確可靠，成份分布均勻，外觀無氣孔、砂眼、裂紋等物理缺陷。

光譜起源于17世紀(jì)，1666年物理學(xué)家牛頓次進行了光的色散實驗。他在暗室中引入一束太陽光，讓它通過棱鏡，在棱鏡后面的自屏上，看到了紅、橙、黃、綠、蘭、靛、紫七種顏色的光分散在不同位置上——即形成一道彩虹。這種現(xiàn)象叫作光譜．這個實驗就是光譜的起源，自牛頓以后，一直沒有引起人們的注意。
經(jīng)歷了100多年的發(fā)展探索與研究，1859年克?；舴蚝捅旧鸀榱搜芯拷饘俚墓庾V自己設(shè)計和制造了一種完善的分光裝置，這個裝置就是世界上臺實用的光譜儀器，研究火焰、電火花中各種金屬的譜線，從而建立了光譜分析的初步基礎(chǔ)。直至1882年，羅蘭發(fā)明了凹面光柵，即是把劃痕直接刻在凹球面上。凹面光柵實際上是光學(xué)儀器成象系統(tǒng)元件的合為一體的高效元件，它解決了當(dāng)時棱鏡光譜儀所遇到的不可克服的困難。凹面光柵的問世不僅簡化了光譜儀器的結(jié)構(gòu)，而且還提高了它的性能。
1928年以后，由于光譜分析成了工業(yè)的分析方法，光譜儀器得到迅速的發(fā)展，一方面改善激發(fā)光源的穩(wěn)定性，另一方面提高光譜儀器本身性能。
早的光源是火焰激發(fā)光譜；后來又發(fā)展應(yīng)用簡單的電弧和電火花為激發(fā)光源，在上世紀(jì)的三十、四十年代改進采用控制的電弧和電火花為激發(fā)光源，提高了光譜分析的穩(wěn)定性。工業(yè)生產(chǎn)的發(fā)晨，光譜學(xué)的進步，促使光學(xué)儀器進一步得到改善，而后者又反作用于前者，促進了光譜學(xué)的發(fā)展和工業(yè)生產(chǎn)的發(fā)展。
六十年代光電直讀光譜儀，隨著計算機技術(shù)的發(fā)展開始迅速發(fā)展。由于計算機技術(shù)的發(fā)展，電子技術(shù)的發(fā)展，電子計算機的小型化及微處理機的出現(xiàn)和普及，成本降低等原因、于上世紀(jì)的七十年代光譜儀器幾乎100％地采用計算機控制，這不僅提高了分析精度和速度，而且對分析結(jié)果的數(shù)據(jù)處理和分析過程實現(xiàn)自動化控制。
解放后，我國的光譜儀器工業(yè)從無到有，由小到大，得到飛躍的發(fā)展，且具有一定的規(guī)模，與世界先進技術(shù)競爭中求生存，社會商品競賽中得到發(fā)展。
1958年開始試制光譜儀器，生產(chǎn)了我國臺中型石英攝譜儀，大型攝譜儀，單色儀等。中科院光機所開始研究刻制光柵，59年上海光學(xué)儀器廠，63年北京光學(xué)儀器廠開始研究刻制光柵，63年研制光刻成功。1966—1968年北京光學(xué)儀器廠和上海光學(xué)儀器廠先后研制成功中型平面光柵攝譜儀和一米平面光柵攝譜儀及光電直讀頭。1971—1972年由北京第二光學(xué)儀器廠研究成功國內(nèi)臺WZG—200平面光柵光量計，結(jié)束了我國不能生產(chǎn)光電直讀光譜儀的歷史。

光譜儀按照應(yīng)用可分為：分子類光譜儀，原子類光譜儀
原子類光譜儀的按原理分為：原子發(fā)射光譜儀，原子吸收光譜儀，原子熒光光譜儀；
其中原子發(fā)射光譜儀又稱為光電直讀光譜儀；按照激發(fā)原理又分：火花直讀光譜儀和電弧直讀光譜儀；
根據(jù)光譜儀器的體積,光譜儀可以分為兩大類:便攜式光譜儀和臺式（立式）光譜儀。光譜儀器按照檢測器可分為:通道式光電倍增光PMT光譜儀和全譜CCD光譜儀。
直讀光譜儀常見的桌面和兩個垂直平面。直讀光譜儀是廣泛應(yīng)用于鑄造、鋼鐵、金屬回收和精煉和軍事工業(yè)、航空、電力、化工、高校和商品檢驗、質(zhì)量控制等。