光譜分析的種類和分析的內(nèi)容
在日常生活中，可以見到各種不同的，如紅、黃、蘭、白色光。太陽(yáng)光經(jīng)三棱鏡后，會(huì)產(chǎn)生紅、橙、黃、綠、青、蘭，紫排列的色帶，還有人們?nèi)庋鬯床灰姷墓馊缱贤饩€，紅外線，γ射線等。
從光譜分析的觀點(diǎn)重要的譜線波長(zhǎng)是在100—12000*10-1nm之間，這個(gè)區(qū)間又分為幾個(gè)光譜范圍。
從廣義講，各種電磁輻射都屬于光譜，一般按其波長(zhǎng)可分為：
γ射線 0.00005—0.14nm
x射線 0.01—10nm
微波波譜 0.3mm—lmm
而光譜區(qū)可分為：
真空紫外區(qū)10—200nm
近紫外區(qū)200～380nm
可見光譜區(qū) 380—780nm
近紅外光譜 780nm一3μm
遠(yuǎn)紅外光譜 3—300μm
注：1米 (m)=103毫米 (mm)=106微米 (μm)
光電直讀光譜分析應(yīng)用的元素波長(zhǎng)，大部分在真空紫外區(qū)和近紫外區(qū)多。
我們通常所講到光譜僅指光學(xué)光譜而言，從物質(zhì)(固、液、氣)加熱或用光或用電激發(fā)射光譜時(shí)得到三種類型的光譜。線光譜是由氣體狀態(tài)下的原子或離子經(jīng)激發(fā)而得到的，通常呈現(xiàn)分立的線狀所以稱線光線，就其產(chǎn)生方式而言又可分為發(fā)射光譜(明線)和吸收光譜(暗線)兩種，因此光譜分析又分為發(fā)射光譜分析和原子吸收光譜分析。如果是原子激發(fā)產(chǎn)生的光譜，稱原子光譜，如果離子激發(fā)所產(chǎn)生的光譜稱離子光譜。帶狀光譜是原子結(jié)合成分子中發(fā)出的或兩個(gè)以上原子的集團(tuán)發(fā)出的，通常呈帶狀分布，是分子光譜產(chǎn)生，如在光譜分析中采用炭電極，在高溫時(shí)，炭與空氣中氮化合生成氰帶(CN)分子，當(dāng)氰分子在電弧中激發(fā)時(shí)產(chǎn)生的光譜，稱氰帶。連續(xù)光譜是從白熱的固體中發(fā)出的，是特定的狀態(tài)下原子分子中發(fā)出來(lái)的，所以連續(xù)光譜是無(wú)限數(shù)的線光譜或帶光譜體。
我們通常講的光譜分析，一般是指“原子發(fā)射光譜分析”，光電光譜分析中元素波長(zhǎng)都是元素的原子光譜和離子光譜。
現(xiàn)在光電光譜儀主要分為兩大類。非真空型的光電光譜儀的工作波長(zhǎng)范圍在近紫外區(qū)和可見光區(qū)。真空光電光譜儀工作波長(zhǎng)擴(kuò)展到遠(yuǎn)真空紫外120．0nm，因而利用這個(gè)波段中氮、碳、磷、硫等譜線的靈敏度來(lái)分析鋼中的重要元素。

直讀光譜實(shí)驗(yàn)室安裝條件要達(dá)標(biāo)。
①實(shí)驗(yàn)室內(nèi)的環(huán)境溫度要控制在10-30℃，相對(duì)濕度控制在20%-80%，確保無(wú)腐蝕性氣體。
②氬氣的供給純度要達(dá)到99.999%以上，不純氬氣中雜質(zhì)影響激發(fā)效果，降低元素的光強(qiáng)值，分析結(jié)果出現(xiàn)偏差。
③輸入實(shí)驗(yàn)室的電源要接在交流穩(wěn)壓器上，輸出電壓接到直讀光譜儀器上，電源電壓波動(dòng)范圍控制在－5%～＋5%以內(nèi)。
做好樣品分析準(zhǔn)備。 設(shè)備和PC電源電壓選擇開關(guān)要設(shè)置適當(dāng)?shù)妮斎腚妷?，過濾灌水量要在三分之一，氬氣壓力設(shè)置為0.5MPa。光譜儀打開后少穩(wěn)定一個(gè)小時(shí)。激發(fā)試樣看激發(fā)點(diǎn)是否正常，做程序修正，觀察數(shù)據(jù)穩(wěn)定性和準(zhǔn)確性。根據(jù)情況決定是不是要做光譜校正和標(biāo)準(zhǔn)化。
正確進(jìn)行樣品分析。
認(rèn)真制備試樣 樣品切割和磨樣處理后，激發(fā)面能密封住激發(fā)孔，樣品表面清潔，無(wú)裂紋、砂眼、氣孔等缺陷，樣品和激發(fā)板不能漏氣。
激發(fā)樣品 樣品制備好后在激發(fā)臺(tái)激發(fā)3次，刪除異常點(diǎn)，留三組數(shù)據(jù)取平均值。
做好直讀光譜儀的維護(hù)保養(yǎng)。
要按時(shí)清潔儀器可見光透鏡和紫外光透鏡，定期檢查更換排氣瓶的水量，定期清潔空氣濾芯、更換濾芯。
定期清潔火花臺(tái)，樣品激發(fā)的過程產(chǎn)生的金屬蒸氣一部分附在火花臺(tái)上，久而久之大量粉末沉積，降低兩電極之間的絕緣性能，影響激發(fā)效果。

光電光譜分析選用的分析線，必需符合下列要求。
直讀光譜分析時(shí)，一般都采用內(nèi)標(biāo)法。因內(nèi)標(biāo)法進(jìn)行分析時(shí)常采用多條分析線和一條內(nèi)標(biāo)線組成，常用試料中的基體元素為內(nèi)標(biāo)元素。組成的線對(duì)要求均稱，就是當(dāng)激發(fā)光源有波動(dòng)時(shí)，兩條線對(duì)的譜線強(qiáng)度雖有變化，但強(qiáng)度比或相對(duì)強(qiáng)度能保持不變。
如R表示強(qiáng)度比即 R=I1/I0
I1為分析線的強(qiáng)度，Io為內(nèi)標(biāo)線強(qiáng)度，表明I1和Io同時(shí)變，而R則不受影響。R與含量C之間有線性關(guān)系。
在光電直讀光譜分析時(shí)，有很多分析通道，要安裝許多內(nèi)標(biāo)通道有困難，因此采用一個(gè)內(nèi)標(biāo)線。但有人認(rèn)為再要提高光電光譜分析的準(zhǔn)確度還得采用不同的內(nèi)標(biāo)線，這還有待于光電轉(zhuǎn)換元件的小型化來(lái)解決。
光電法時(shí)，有時(shí)還用內(nèi)標(biāo)線來(lái)控制曝光量，稱為自動(dòng)曝光，也就是樣品在曝光時(shí)，分析線和內(nèi)標(biāo)分別向各自積分電容充電，當(dāng)內(nèi)標(biāo)線的積分電容器充電達(dá)到某一預(yù)定的電壓時(shí)，自動(dòng)截止曝光。此時(shí)分析線的積分電容器充電達(dá)到的電壓即代表分析線的強(qiáng)度I，并且亦即代表分析線的強(qiáng)度比R(因?yàn)镽=I1/Io，而此時(shí)Io保持常數(shù))這個(gè)強(qiáng)度I或強(qiáng)度比R就由測(cè)光讀數(shù)所表示。
現(xiàn)在一般采用計(jì)時(shí)曝光法較為普遍。

從事直讀光譜儀的這些年里，經(jīng)常會(huì)碰到客戶問：為什么直讀光譜儀需要配置標(biāo)準(zhǔn)樣品？直讀光譜儀不是直接測(cè)量產(chǎn)品就應(yīng)該很準(zhǔn)確的嗎？為什么還需要標(biāo)準(zhǔn)樣品去校準(zhǔn)？等等一系列問題。這些問題都涉及到標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)，針對(duì)這些問題，想和大家分享一下關(guān)于標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)的知識(shí)。
在日常生產(chǎn)過程、實(shí)驗(yàn)研究、科學(xué)探索等各行各業(yè)，其實(shí)我們都能見到人們運(yùn)用各種各樣的儀器儀表、測(cè)量用具。那么怎樣保證和衡量這些設(shè)備是否可靠精確的運(yùn)行，這其中必然會(huì)有一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)的參照物來(lái)做參考和對(duì)比，那么這個(gè)參照物也可以簡(jiǎn)單的定義為標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)。
標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)（RM）是具有一種或多種足夠均勻和很好的確定了特性，用以校準(zhǔn)測(cè)量裝置、評(píng)價(jià)測(cè)量方法或材料賦值的一種材料或物質(zhì)。 注：一種標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)可以是純的或者混合的氣體、液體或固體。