PlasmMS 300在生物醫(yī)藥行業(yè)的應(yīng)用
一般說(shuō)來(lái)，生物樣品(例如血樣)都含有高基體。分析這些類型的樣品需要對(duì)進(jìn)樣系統(tǒng)和錐 口部分(ft end)進(jìn)行高頻率的維護(hù)。根據(jù)需要的檢測(cè)限，通常上機(jī)前都需要對(duì)這些樣品進(jìn) 行基體匹配和稀釋。
生物樣品中一些特殊元素的干擾，例如：
ArC 干擾 52Cr
ArAr 干擾 80Se & 78Se ArCl 干擾 75As
ArNa 干擾 63Cu
這些干擾可通過(guò)使用 CCT 消除，其能維持高功率，將難電離元素(As 和 Se 等)進(jìn)行電離， 從而解決高生物基體的問(wèn)題。
應(yīng)用領(lǐng)域
體液中的全元素分析，如血液、尿液、血清 生物醫(yī)學(xué)健康研究利用同位素追蹤評(píng)估機(jī)體功能和身體受污染程度。

PlasmaMS 300在環(huán)境領(lǐng)域的應(yīng)用
在環(huán)境應(yīng)用領(lǐng)域(監(jiān)控環(huán)境中微量和有毒元素)中，PLASMAMS 300是近年來(lái)增長(zhǎng)快的應(yīng)用技術(shù) 手段。 該應(yīng)用的關(guān)鍵是：根據(jù)相關(guān)法規(guī)，必須對(duì)水、土壤、淤泥以及其他重要的環(huán)境物質(zhì)中的一 系列元素進(jìn)行檢測(cè)，并且這些元素含量都在接近ppb級(jí)別。
在環(huán)境行業(yè)應(yīng)用中，的挑戰(zhàn)是：用同樣的分析方法來(lái)分析不同基體的樣品。在這種情 況下，是在用PLASMAMS 300檢測(cè)之前對(duì)樣品基體進(jìn)行分離。
分離技術(shù)近幾年在環(huán)境樣品分析中運(yùn)用很多。具體方法就是：將iCAP Q與可以分離目 標(biāo)元素氧化物的附件(一般為色譜，例如LC或GC)偶聯(lián)。
應(yīng)用領(lǐng)域：
自來(lái)水檢測(cè)和水污染監(jiān)測(cè) 廢水中有毒元素和低水平錒系元素測(cè)定
環(huán)境污染物中同位素識(shí)別和定量

PlasmaMS 300同位素選擇
有的元素只有一種同位素，因此被稱為單同位素元素。大多數(shù)的元素都有多種同位素供 選。.
多同位素元素(Multi-isotopic)
? Copper(Cu), selenium(Se), lead(Pb), mercury(Hg), erbium(Er), ytterbium(Yb), lutetium(Lu)
單同位素元素(Mono-isotopic)
? Beryllium(Be), sodium(Na), aluminum(Al), manganese(Mn), cobalt(Co), arsenic(As), bismuth(Bi), holmium(Ho), thulium(Tu)
當(dāng)需要從多個(gè)供選同位素中選擇合適的同位素來(lái)對(duì)目標(biāo)元素進(jìn)行分析的時(shí)候，可以從以 下幾個(gè)方面進(jìn)行考慮：
例如: 1.靈敏度或動(dòng)態(tài)線性范圍是考慮的主要因素嗎?
如果需要優(yōu)先考慮靈敏度的話，絕大多數(shù)情況下，挑選相對(duì)豐度比的同位素是正確的
選擇。如果有的樣品中目標(biāo)元素濃度高，有的目標(biāo)元素濃度低，彼此之間濃度差異很大， 那么此時(shí)就需要優(yōu)先考慮擴(kuò)展該元素的動(dòng)態(tài)線性范圍，此時(shí)應(yīng)當(dāng)選擇相對(duì)豐度比較小的同 位素來(lái)進(jìn)行檢測(cè)。
2.你的樣品中是否包含了會(huì)造成干擾的大量元素？ 有的時(shí)候，選擇豐度比的同位素反而達(dá)不到降低檢出限的目的，因?yàn)闃悠坊w成分中 可能含有別的干擾元素，對(duì)目標(biāo)同位素造成了同位素干擾或多原子分子干擾。此時(shí)選擇另 一個(gè)雖然豐度比相對(duì)低一些但是不受干擾的同位素來(lái)進(jìn)行測(cè)量才是正確的。基體干擾中比
較常見(jiàn)的是氧化物干擾?；w中的干擾同位素形成氧化物后，會(huì)直接影響質(zhì)量數(shù)比它大
16的同位素的測(cè)定結(jié)果。

PlasmaMS 300在金屬工業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用
痕量元素含量的變化對(duì)材料性能和生產(chǎn)控制有巨大影響。
PlasmaMS 300 PLASMAMS 300能在主要元素存在的條件下精確測(cè)定痕量元素，使用跳峰掃模式可以避 免主量元素、其氧化物、其雙電荷、其氫化物等的干擾，選擇同位素時(shí)應(yīng)注意避免基體離 子干擾。
應(yīng)用領(lǐng)域：
在研發(fā)和專業(yè)化學(xué)應(yīng)用領(lǐng)域有較廣的范圍 高純陶瓷和化學(xué)品
金屬和玻璃 產(chǎn)品純度驗(yàn)證