Labspark 750T技術(shù)特點(diǎn)
?原位單次放電采集的專利技術(shù)（SDA）有效提高分析精度
?單板式透鏡架，擦拭時(shí)大大降低對光室的污染
?基于 ARM9 的儀器狀態(tài)實(shí)時(shí)監(jiān)控系統(tǒng)
?固態(tài)吸附阱，防止油氣對光室的污染，提高長期運(yùn)行穩(wěn)定性
?綠光背景燈，加快響應(yīng)速度，提高短期分析精度
?·銅火花臺(tái)底座，提高散熱性及堅(jiān)固性。
?·激發(fā)能量、頻率連續(xù)可調(diào)全數(shù)字固態(tài)光源，適應(yīng)各種不同材料。
?可變延時(shí)積分技術(shù)，大大降低背景干擾。
?高精度光電倍增管負(fù)高壓獨(dú)立供電連續(xù)可調(diào)技術(shù)，調(diào)整更精確，可程序調(diào)整，提高動(dòng)態(tài)范圍。
?網(wǎng)口采集，通用性更強(qiáng)。
?真空光室由特殊材質(zhì)制作：極低的熱膨脹系數(shù)，受溫度波動(dòng)影響小。
?全新光室結(jié)構(gòu)：可輕松檢測 Li、Na、K 等長波元素以及極短波長元素或干擾嚴(yán)重的元素，如 N、P、S、B、Sb 等。
?內(nèi)置疲勞背景燈：有效降低光電倍增管暗電流對信號(hào)
?收集的影響，提高信噪比，延長光電倍增管的使用壽命。
?自動(dòng)描跡：全新設(shè)計(jì)的自動(dòng)描跡系統(tǒng)，快速精準(zhǔn)，大大提高了儀器分析效率并降低了操作難度，提供自動(dòng)與手動(dòng)描跡切換功能。
?全新設(shè)計(jì)的共軸火花臺(tái)：采用優(yōu)化的內(nèi)部氣路，大大減少了氬氣的消耗量，減少了火花臺(tái)內(nèi)部的殘留金屬粉塵并且提高了儀器分析數(shù)據(jù)時(shí)的穩(wěn)定性。

直讀光譜儀的分辨率受到入縫寬度、出縫寬度、光柵刻線數(shù)、光譜儀的焦距、光線入射角、光譜級(jí)次等因素的綜合影響,其中全譜和多道直讀光譜儀的主要區(qū)別在于出入縫寬度、光柵刻線數(shù)和焦距的不同.全譜型直讀光譜儀雖然焦距比較小,但其采用了更窄的入縫和更高刻線數(shù)的光柵,因此其光學(xué)分辨率與大型多道光譜儀相當(dāng);而且大型多道直讀光譜儀采用PMT作為檢測器,必須配合出縫來選擇光譜,受制于光譜強(qiáng)度、出縫的加工和光學(xué)調(diào)試難度等因素的影響,出縫寬度通常在50μm左右,影響了多道光譜儀的分辨能力.而全譜型直讀光譜儀采用CCD作為檢測器,其像素寬度僅為10μm左右,大大提高了光譜的分辨能力.

吹氬的主要作用是試樣激發(fā)時(shí)趕走火花室內(nèi)的空氣，減小空氣對紫外光區(qū)譜線的吸收。主要是因?yàn)榭諝庵械难鯕?、水蒸氣在遠(yuǎn)紫外區(qū)具有強(qiáng)烈的吸收帶，對分析結(jié)果造成很大的影響，且不利于激發(fā)穩(wěn)定，形成或加強(qiáng)擴(kuò)散放電，激發(fā)時(shí)產(chǎn)生白點(diǎn)。另外，樣品中的合金元素在高溫情況下可能會(huì)與空氣中成分發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成分子化合物，從而會(huì)有分析光譜對我們所需的原子光譜造成干擾。因此必須要求氬氣的純度達(dá)到99.999％ 以上。另外，氬氣的壓力和流量也對分析質(zhì)量有一定影響，它決定氬氣對放電表面的沖擊能力，這種激發(fā)能力必須適當(dāng)，過低，不足以將試樣激發(fā)過程中產(chǎn)生的氧氣和它形成的氧化物沖掉，這些氧化物凝集在電極表面上，從而抑制試樣的繼續(xù)激發(fā)；氬氣流量過大，一是造成不必要的浪費(fèi)。二是對光譜儀也有一定的損傷。因此氬氣壓力和流量必須適當(dāng)。據(jù)實(shí)踐證明，氬氣的壓力和流量，應(yīng)根據(jù)不同材質(zhì)進(jìn)行調(diào)節(jié)，對中低合金鋼的分析，輸入光譜儀的氬氣壓力應(yīng)達(dá)到0.5—1.5MPa，動(dòng)態(tài)氬的流量為12～ 20個(gè)讀數(shù)，靜態(tài)氬的流量為3～5個(gè)讀數(shù)。

光譜儀采用了一個(gè)復(fù)雜而又敏感的光學(xué)系統(tǒng)。光譜儀的環(huán)境溫度，濕度，機(jī)械振動(dòng)，以及大氣壓的變化，都會(huì)使譜線產(chǎn)生微小的變化而造成譜線的偏移。氣壓和濕度變化會(huì)改變介質(zhì)的折射率，從而使譜線發(fā)生偏移，濕度的提高不僅會(huì)使空氣的折射率增大，而且會(huì)對光學(xué)零件產(chǎn)生腐蝕作用，降底了儀器透光率，濕度一般應(yīng)控制在55% -60% 以下。溫度對光柵的影響主要改變光柵常數(shù)，使角色散率發(fā)生變化，產(chǎn)生譜線漂移。這些變化會(huì)使光譜線不能完全對準(zhǔn)相應(yīng)的出射狹縫，從而影響分析結(jié)果。